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| https://www.monotaro.com/p/6274/4886/ | 2026/10/05 09:32:32 |
 | 秀和システム 図解入門よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み 第4版 |
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| 特長: | シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰。半導体製造工程の流れが図解でよくわかる。半導体製造プロセス全体像；前工程の概要；洗浄・乾燥ウェットプロセス；イオン注入・熱処理プロセス；リソグラフィプロセス；エッチングプロセス；成膜プロセス；平坦化(CMP)プロセス；CMOSプロセスフロー；後工程プロセスの概要；後工程の動向；半導体プロセスの最近の動向 |
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| 分類: | 専門 |
| 判型: | A5 |
| ページ数: | 256 |
| ジャンル: | 電気 |
| 著者名: | 佐藤淳一 |
| 初版年月: | 2020/09/01 |
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