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スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。 異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。

スプレーパターン全域にわたり均等な流量分布の扇形噴霧を発生。高圧洗浄用に設計した1/8サイズ。

低い液圧にもかかわらず広角の扇形噴霧を発生させます。

最も強い打力の棒流を発生させる直進ノズル。

一流体ノズルの中で最高の微粒化性能を誇る環境スプレーパターンの極小墳量空円錐ノズル。 微霧を発生できる。 施流失空

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の広噴角円錐ノズルです。 噴角が120°のため、他のどのノズルよりも広い噴霧面積をカバーできます。 異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを採用していますので、目詰まりしにくいです。

平均粒子径が100μm以下の微霧を発生する2流体扇形ノズル。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズル。

平均粒子径が60μm以下の微霧を発生する2流体充円錐ノズル。

平均粒子径が30ミクロン以下(※1)の”微霧”を発生する2流体扇形ノズル。液供給は加圧装置が不要のサクションタイプ。扇形の全域にわたり均等な流量分布。※1 レーザードップラー法による測定値。

平均粒子径が100μm以下の微霧を発生する2流体充円錐ノズル。

配管後に正確な位置合わせができます。角度をつけて取り付けたい時、その都度向きを変えたい時に最適です。圧力0.3MPaまで噴霧しながら角度調整が可能です。O-リング不要で、手締めで固定が可能です。金属製の半分以下の軽さで、射出成型のため非常に安価です。

単孔の直進エアーを噴射するので、直進性が高く、エアーブロー効果が高い。

中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生。ノズル複数配列時にパターンの両端をオーバーラップさせて使うと、流量分布が全幅において均等になる。

強い打力の棒流を発生させる直進ノズル。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズル。

スプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズル。細霧を発生可能。旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れる。

中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生させます。 ノズル複数配列時にパターンの両端をオーバーラップさせて使うと、流量分布が全巾において均等になります。

液中で噴射した際ノズル内が負圧になることで周囲の液体を吸い込み、 供給液量の3～4倍の液量を吐出するノズル。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズル。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズル。

低液圧力で広角の扇形噴霧を発生。目詰まりしにくい。ノズル軸心に対し75°の仰角で噴霧。

中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生。ノズル複数配列時にパターンの両端をオーバーラップさせて使うと、流量分布が全幅において均等になる。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズル。

スプレーパターン全域にわたり均等な流量分布の扇形噴霧を発生。単位面積当たりの打力が均一。

50°任意の方向に位置決め可能な自在継手。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

1流体ノズルの中で最高の微粒化性能を持つ。環状スプレーパターンの極小噴量空円錐ノズル。微霧を発生可能。従来品と比較し異物通過径が1.3～2.6倍大きく、目詰まりしにくい。旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れる。

スプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズル。異物通過径が大きく、目詰まりしにくい細霧発生ノズル。部品点数が少なくコンパクトな設計。ワーラーが取外し可能、メンテナンスが容易。

チップ

スプレーパターン全域にわたり均等な流量分布の扇形噴霧を発生。単位面積当たりの打力が均一。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の広噴角円錐ノズルです。噴角が120度のため、他のどのノズルよりも広い噴霧面積をカバーできます。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを採用していますので、目詰まりしにくいです。

平均粒子径が50μm以上の細霧を発生する2流体扇形ノズル。