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45°直角プリズム RPシリーズ
シグマ光機¥24,980~税込¥27,478~1個当日出荷から13日以内出荷臨界角全反射や波長分散など、様々な用途で使用できるコーティングされていないプリズムです。また、このプリズムに各種のコーティングが施せるので、ご使用波長のプリズム光学素子を製作することができます。
60°分散プリズム DPシリーズ
シグマ光機¥40,980税込¥45,0781個6日以内出荷から12日以内出荷細くコリメートされた白色光をプリズムに入射させると、波長に対する屈折率の違いによって波長成分に分かれて出射します。分散プリズムは分光器やフェムト秒レーザの発振器の分散補償などに使用されます。
球面平凸レンズ(合成石英 Φ25~Φ30) SLSQシリーズ
シグマ光機¥8,298~税込¥9,128~1個5日以内出荷から12日以内出荷単純な形状で、球面収差を少し抑えたレーザ実験用のレンズです。レーザ光をディテクターに集光させたり、単色光源を用いた結像の実験などに使用できます。
球面両凸レンズ(合成石英 Φ5~Φ25) SLSQシリーズ
シグマ光機¥9,998~税込¥10,998~1個8日以内出荷から12日以内出荷両面を凸面にすることで、狭いスペースで効率よく光を屈折させ、光を多く集められるレンズです。コリメート光をできるだけ短い距離で集光させたい時や発光点から発散する光をできるだけ多く集めたい時に使用します。
球面両凹レンズ(合成石英 Φ10~Φ50.8) SLSQシリーズ
シグマ光機¥13,980~税込¥15,378~1個8日以内出荷から12日以内出荷両面を凹面にすることで、狭いスペースで効率よく光を屈折させ、光を大きく広げられるレンズです。照明光の照射面積を広げる場合に使用できます。
平面基板 OFSQシリーズ
シグマ光機¥13,980~税込¥15,378~1個6日以内出荷から12日以内出荷片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5~4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。
平行平面基板 OPSQ-2シリーズ
シグマ光機¥6,698~税込¥7,368~1個7日以内出荷から12日以内出荷ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。
球面両凸レンズ(合成石英 Φ25.4~Φ50.8) SLSQシリーズ
シグマ光機¥9,998~税込¥10,998~1個8日以内出荷から12日以内出荷両面を凸面にすることで、狭いスペースで効率よく光を屈折させ、光を多く集められるレンズです。コリメート光をできるだけ短い距離で集光させたい時や発光点から発散する光をできるだけ多く集めたい時に使用します。
平行平面基板 OPSQシリーズ
シグマ光機¥6,698~税込¥7,368~1個8日以内出荷から12日以内出荷ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。
ウェッジ基板 WSシリーズ
シグマ光機¥13,980~税込¥15,378~1個8日以内出荷から13日以内出荷基板の表・裏面に僅かなウェッジをつけることで、表・裏面による反射ビームを分離させることができます。ビームサンプラーや干渉計の参照原器として使用できます。
球面平凹レンズ(合成石英 Φ10~Φ25.4) SLSQシリーズ
シグマ光機¥11,980~税込¥13,178~1個10日以内出荷から12日以内出荷単純な形状で、コリメートしたレーザ光を広げることができます。凸レンズと組み合わせてビーム径を広げたり、照明光の照射面積を広げる場合に使用できます。















