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高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(R) ガスフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ZPure(R) Glass (インジケータ搭載ガラス製ガス精製フィルター)、外側ポリカーボネート、内側ガラスの二重構造により、ガラス破損時にガスを隔離、酸素と水に関する高感度の視覚的インジケータを搭載、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、フッ素ゴムシールを採用、ヘリウムガスによるリークチェック済み、高感度のインジケータにより交換時期がわかります。推奨アプリケーション：不活性ガス、He、Ar、N2、H2 の精製に使用でき、GC および GC/MS キャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ( ブタンより重い ) を含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2 精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ブタンより重い) 含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2 精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ブタンより重い) 含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2、メタン、クリーンドライエア CDA) ら水分を低 pb ベルまで除去します。 乾燥ガスを必要とするあらゆるアプリケーションに推奨します。

ZPure(TM)M (超大容量ガス精製フィルター)、ZPure(TM)M ガス精製フィルターは3，800 ccの大容量で除去容量が大きく、かつ大流量で使用できます。形状は円筒形で316ステンレス製、接続部分は1/2"VCRと1/4"コンプレッションフィッティング接続を採用しています。ZPure(TM)M フィルターには、炭化水素、水分、酸素/水分フィルターおよびPolyGas IIの除去タイプを用意しています。不活性ガス、He、Ar、N2、H2 をより大容量で精製することができます。汚染物質を含まない高純度ガスを必要とするあらゆるアプリケーションに推奨します。とくに半導体用途で多く採用されています。

SPure(TM) H₂O フィルターは、空気や不活性ガスから水分、油分、ほこりを取り除きます。アルミニウム エンド キャップ付きの高強度ポリカーボネートおよびアクリル ボディ。一般的な真鍮製およびステンレス製の圧縮フィッティングを使用できます。水分インジケータ搭載、コンプレッサーエアーやGC キャリアガスでの使用は推奨しません。危険ガス、可燃性ガス、または反応性ガスには使用しないでください。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(R) ガスフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ZPure(R) Glass (インジケータ搭載ガラス製ガス精製フィルター)、外側ポリカーボネート、内側ガラスの二重構造により、ガラス破損時にガスを隔離、酸素と水に関する高感度の視覚的インジケータを搭載、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、フッ素ゴムシールを採用、ヘリウムガスによるリークチェック済み、高感度のインジケータにより交換時期がわかります。推奨アプリケーション：不活性ガス、He、Ar、N2、H2 の精製に使用でき、水を含まない超高純度ガスを必要とするあらゆるアプリケーションに推奨します。水分インジケータは 1 ppm でブレークスルーを示します。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2の精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素や水分を含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。