カテゴリ
- 科学研究・開発用品(3)
絞り込み
ブランド
- S.G.E
- 日立産機システム(6)
- NBK(鍋屋バイテック会社)(5)
- SMC(13)
- SUS(エスユーエス)(4)
- TOKISTAR(12)
- TOSTEM(LIXIL)(5)
- WURTH ELEKTRONIK(4)
- アイリスオーヤマ(3)
- ジーベックスソリューションズ(旧：ウシオライティング/旧：ジーベックス)(2)
- ニッサン(155)
- ノーブランド(5)
- ホンダ(44)
- ユニカ(3)
- リス(4)
- 山田照明(3)
- 椿本チエイン(3)
- 興和オプトロニクス(4)
- 貝印(25)
- ブランドをもっと見る
「hc35」の検索結果
CRS ガス精製フィルター ZPure(TM) PolyGas I
S.G.E￥43,980～税込￥48,378～1本16日以内出荷から43日以内出荷高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2 精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ブタンより重い) 含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。
CRS ガス精製フィルター ZPure(TM) HC
S.G.E￥26,980～税込￥29,678～1本24日以内出荷から33日以内出荷高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2、クリーンドライエア CDA) ら炭化水素(ブタンより重い)を数ppbレベルまで除去します。炭化水素を含まないガスを必要とするほとんどのアプリケーションに推奨します。
CRS ガス精製フィルター ZPure(TM) PolyGas II
S.G.E￥40,980～税込￥45,078～1本24日以内出荷高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2 精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ブタンより重い) 含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。
