真空用テンプ・プレート 6点表示Wahl(ウォール)当日出荷から翌々日出荷
エッチング、スパッタリング、その他真空内温度測定に。プラズマ雰囲気対策としてカプトンフィルムでカバー 裏面印刷なので真空中での印刷インク飛散防止(アウトガスを最小限に抑えます)カプトンの重ね貼りの必要がなく作業工数短縮。貼り付け精度向上。すべてのレンジにカプトンフィルム使用。プラズマ雰囲気対策としてカプトンフィルムでカバー。すべてのレンジにカプトンフィルム使用。
用途・半導体製造装置のウエハの実温測定・LCD製造装置における硝子基板の温度測定・真空装置の内部治具の温度測定外形寸法(mm)10×29寸法(幅W×高さH)(mm)29×10表示6点表示精度(%)±1RoHS指令(10物質対応)対応
真空用テンプ・プレート 8点表示Wahl(ウォール)当日出荷から翌々日出荷
エッチング、スパッタリング、その他真空内温度測定に。プラズマ雰囲気対策としてカプトンフィルムでカバー。裏面印刷なので真空中での印刷インク飛散防止(アウトガスを最小限に抑えます) カプトンの重ね貼りの必要がなく作業工数短縮。貼り付け精度向上。すべてのレンジにカプトンフィルム使用。プラズマ雰囲気対策としてカプトンフィルムでカバー。すべてのレンジにカプトンフィルム使用。
用途・半導体製造装置のウエハの実温測定・LCD製造装置における硝子基板の温度測定・真空装置の内部治具の温度測定外形寸法(mm)10×38寸法(幅W×高さH)(mm)38×10表示8点表示精度(%)±1RoHS指令(10物質対応)対応
テンプ・プレート ミニサイズ4点表示Wahl(ウォール)当日出荷から4日以内出荷
テンププレートの大きな特徴として、検定ロット番号で管理されたNISTトレーサビリティの保証があります。 貼っておくだけで表面温度を記録。水,ガス,薬品などの影響を受けない。不可逆なので確実な永久記録。常時監視することなく温度把握 。接近しにくい箇所の測定が可能。精度±1%(100℃以下±1℃)。反応速度1秒(水中、緩やかな熱勾配)
用途エレクトロニクス ・次世代エネルギー ・半導体製造装置のウエハの実温測定 ・LCD製造装置における硝子基板の温度測定 ・真空装置の内部治具の温度測定 ・真空装置、真空ポンプ等の温度管理 基板予熱、ICテスト、変圧器、通電点検、ハンダ付け、 コンピュータ保守 機械・装置 エンジン、モータ-、ラジエータ、ベアリング、ヒーター、 ボイラ-、パイプライン、航空宇宙 各種の産業現場 生産製造工程の温度管理、熱処理の適正温度の把握、 オーバーヒートの検出、装置・設置のメンテナンス寸法(mm)W11×3外形寸法(mm)3×11寸法(幅W×高さH)(mm)11×3表示4点表示精度(%)±1変色白→黒RoHS指令(10物質対応)対応
真空用テンプ・プレート 4点表示Wahl(ウォール)当日出荷から4日以内出荷
エッチング、スパッタリング、その他真空内温度測定に。 プラズマ雰囲気対策としてカプトンフィルムでカバー 裏面印刷なので真空中での印刷インク飛散防止(アウトガスを最小限に抑えます) カプトンの重ね貼りの必要がなく作業工数短縮 貼り付け精度向上 すべてのレンジにカプトンフィルム使用
プラズマ雰囲気対策としてカプトンフィルムでカバー すべてのレンジにカプトンフィルム使用
用途・半導体製造装置のウエハの実温測定 ・LCD製造装置における硝子基板の温度測定 ・真空装置の内部治具の温度測定寸法(mm)W21×10外形寸法(mm)10×21寸法(幅W×高さH)(mm)21×10表示4点表示精度(%)±1変色白→黒RoHS指令(10物質対応)対応
真空用テンプ・プレート ミニサイズ4点表示Wahl(ウォール)¥4,949~税込¥5,444~特価
1ケース(10枚)
当日出荷から4日以内出荷
4点表示・真空内温度測定対応シール プラズマ雰囲気対策としてカプトンフィルムでカバー 裏面印刷なので真空中での印刷インク飛散防止(アウトガスを最小限に抑えます)従来タイプのような、カプトンテープの重ね貼りの必要がなく作業工数短縮
(従来の441シリーズの1/3)貼り付け精度向上ラベルの端から示温素子中心まで2mm。ウエハー・エッジの温度を測る事が出来る すべてのレンジにカプトンフィルム使用
用途・半導体製造装置のウエハの実温測定 ・LCD製造装置における硝子基板の温度測定 ・真空装置の内部治具の温度測定寸法(幅W×高さH)(mm)16×5表示4点表示精度(%)±1
テンプ・プレート 6点表示Wahl(ウォール)当日出荷から4日以内出荷
テンププレートの大きな特徴として、検定ロット番号で管理されたNISTトレーサビリティの保証があります。 貼っておくだけで表面温度を記録。水,ガス,薬品などの影響を受けない。不可逆なので確実な永久記録。常時監視することなく温度把握 。接近しにくい箇所の測定が可能。精度±1%(100℃以下±1℃)。反応速度1秒(水中、緩やかな熱勾配)
用途エレクトロニクス ・次世代エネルギー ・半導体製造装置のウエハの実温測定 ・LCD製造装置における硝子基板の温度測定 ・真空装置の内部治具の温度測定 ・真空装置、真空ポンプ等の温度管理 基板予熱、ICテスト、変圧器、通電点検、ハンダ付け、 コンピュータ保守 機械・装置 エンジン、モータ-、ラジエータ、ベアリング、ヒーター、 ボイラ-、パイプライン、航空宇宙 各種の産業現場 生産製造工程の温度管理、熱処理の適正温度の把握、 オーバーヒートの検出、装置・設置のメンテナンス寸法(幅W×高さH)(mm)29×10表示6点表示精度(%)±1RoHS指令(10物質対応)対応