「30度」の検索結果

紫外、可視域、赤外の広い波長帯域で使用できるプレート型のハーフミラーです。多波長レーザや白色光原の透過・反射分岐に使用できます。

高剛性・高精度が求められる計測装置や検査装置の位置決めに最適なステッピングモータ駆動ステージです。

焼入れされたスチール製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した非常に耐久性に優れたXY軸直動ステージです。

ボールネジとボールガイドを採用した、高精度・耐久性に優れた自動直動ステージです。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

メーカーの手動ステージの中で最薄10mmを実現した高剛性に優れた直動ステージです。従来品(TSD)と比較し、ステージ厚さ40%・質量355を削減しました。

アリ溝ガイド・ラックピニオン方式により、動作頻度が比較的多く、早い動きと移動量が必要な場合に適したステージです。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ステージ本体とZ軸ブラケットを一体化したZ軸ステージです。

ガイドにベアリングを採用し、送り機構にはウォームギアを使用したステッピングモータ駆動の回転ステージです。

メーカー独自の調整技術により極めて高い平行度を実現したZ軸精密ステージです。

突起部を省き小スペース型で動作頻度が少なく微細な調整用途に適した、テーブル面が水平な調整用XYZ軸ステージです。

粗動360°の回転と微動(マイクロメーターヘッド又はファインピッチスクリューからの選択)が可能なすり合わせ式の透過用θ軸(回転)粗微動ステージです。 粗動360°の回転と微動(マイクロメータヘッド又はファインピッチスクリューからの選択)が可能なすり合わせ式の透過用θ軸(回転)粗微動ステージです。粗動はステージ上面を直接回転させ、微動は粗動部分をクランプし、マイクロメータヘッド又はファインピッチスクリュー(±3～5°)で行います。ステージ本体にシンチュウを採用し、鉄製のクロスローラを使用することで高精度・高剛性を実現します。ステージ中央に貫通穴があいているタイプは、透過用としてご利用いただけます。品番末尾にFPがついている製品は、ファインピッチスクリューを使用しています。一般的なマイクロメータヘッドではありませんので、ご注意ください。ネジピッチ0.25mmで操作する際には、六角レンチまたは別売のツマミ付六角レンチ(KCL)が必要となります。

アルミ製のステージ本体にクロスローラーガイドを使用した、軽量で高精度な直動ステージです。

可視域帯だけではなく、紫外または赤外の帯域を広くカバーした、高反射率のミラーです。不可視光を含む分光実験や、黒体輻射スペクトルの伝播に使用できます。

焼入れされたスチール製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した非常に耐久性に優れたXY軸直動ステージです。

突起部を省き小スペース型で動作頻度が少なく微細な調整用途に適した、テーブル面が水平な調整用Z軸ステージです。

使用頻度が多く素早い動きと大きく移動量が必要な場合に最適なZ軸ラックピニオンステージです。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。

紫外の高出力レーザや紫外に近い波長域の光を減光させる時に使用するNDフィルターです。透過しない光はガラスに吸収されないので、ガラスが高温になって破損する心配がありません。

フッ化カルシウム(CaF2)は真空紫外(130nm)から近赤外(8μm)の広い波長域で優れた透過特性を持った結晶です。このCaF2を使った広帯域の窓です。

ミラーの厚みが変わってもミラー反射面がロッドの軸からオフセットしないキネマティックミラーホルダーです。

アリ溝ガイド・ネジ送り調整方式を使用した動作頻度が少なく微細な調整用途に適したXYZ軸ステージです。

アリ溝にウォームギアを採用した姿勢調整(角度調整や補正)に使用するゴニオステージです。

小型・薄型・高耐久性の3要素を兼ね備えたクロスローラ自動ステージです。

BSHLミラーホルダーを定盤やブレッドボードに固定する場合に使用するベースプレートです。0度入射と45度入射の配置にBSHLを設置することができます。

ステージ本体とZ軸ブラケットを一体化した軽量なZ軸アルミステージです。移動ガイドにクロスローラを使用しているため、滑らかな移動が得られます。

アリ溝にウォームギアを採用した姿勢調整(角度調整や補正)に使用するゴニオステージです。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

高出力レーザや広い波長域の光を減光させる時に使用するNDフィルターです。透過しない光はガラスに吸収されないので、ガラスが高温になって破損する心配がありません。

紫外、可視域、赤外の広い波長帯域で使用できるプレート型のハーフミラーです。多波長レーザや白色光原の透過・反射分岐に使用できます。

YAGレーザ(1064nm)を高調波変換したレーザ光(355nm、532nm)を波長で分離または合波する場合に使用します。反射率波長が違う3種類をご用意しています。誘電体多層膜を使用しているので、膜に吸収がなく、エネルギー密度の高いレーザ光にも使用できます。プレートタイプのため、ビーム径の大きなレーザにも使用できます。

ハイパワーのレーザや大きなビーム径の光に用いることができるプレートタイプの偏光ビームスプリッターです。高出力レーザ用の偏光アッテネータや光量分岐比を可変する光学系などに使用されます。

シグマ光機独自の実績ある高剛性一体型ガイドから、セパレート型へ進化し、高剛性・軽量化を実現しました。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

調整ネジの操作方向を上にすることで、ホルダーの調整に取られるスペースをホルダーの周りから無くしました。ホルダー同士を近接させて設置することができ、光学系を非常にコンパクトに納めることができます。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

アリ溝ガイド・ラックピニオン方式により、動作頻度が比較的多く、早い動きと移動量が必要な場合に適したステージです。

焼入れされたスチール製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した非常に耐久性に優れた直動ステージです。