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高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2の精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素や水分を含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。

ZPure(TM)M (超大容量ガス精製フィルター)、ZPure(TM)M ガス精製フィルターは3，800 ccの大容量で除去容量が大きく、かつ大流量で使用できます。形状は円筒形で316ステンレス製、接続部分は1/2"VCRと1/4"コンプレッションフィッティング接続を採用しています。ZPure(TM)M フィルターには、炭化水素、水分、酸素/水分フィルターおよびPolyGas IIの除去タイプを用意しています。不活性ガス、He、Ar、N2、H2 をより大容量で精製することができます。汚染物質を含まない高純度ガスを必要とするあらゆるアプリケーションに推奨します。とくに半導体用途で多く採用されています。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(R) ガスフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ZPure(R) Glass (インジケータ搭載ガラス製ガス精製フィルター)、外側ポリカーボネート、内側ガラスの二重構造により、ガラス破損時にガスを隔離、酸素と水に関する高感度の視覚的インジケータを搭載、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、フッ素ゴムシールを採用、ヘリウムガスによるリークチェック済み、高感度のインジケータにより交換時期がわかります。推奨アプリケーション：不活性ガス、He、Ar、N2、H2 の精製に使用でき、GC および GC/MS キャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ( ブタンより重い ) を含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2 精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ブタンより重い) 含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。