研究用高純度シリコンウェハー 1枚入
研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供
仕様(面方位)100、(OF位置)110、パーティクル不問、多様な形状加工と表面処理が可能です(例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)抵抗値0.1～100Ω・cm※低抵抗：≦0.02Ω・cm、高抵抗：≧500Ω・cm製造方法CZ法内容量1枚
注意
※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。地域運賃
| 地域 | 単位 | 配送費 |
|---|---|---|
| 離島 | 数量1以上のご注文(同一注文コードにつき) | ¥20,000/税込¥22,000 |
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