63666620 | GX-9000C100T1N1D000 | 1%LEL/0.1vol%(メタン)/0.1vol%(酸素)/0.1ppm(硫化水素)/1ppm(一酸化炭素) | 0-100%LEL・0-100.0vol%(メタン)/0-40.0vol%(酸素)/0-200.0ppm(硫化水素)/0-2000ppm(一酸化炭素) | ニューセラミック式(メタン)/定電位電解式(酸素・硫化水素・一酸化炭素) | メタン(爆発下限濃度/高濃度)・酸素・硫化水素・一酸化炭素 | C100T1N1D000 | ¥276,000 | ¥269,800 | ¥296,780(税込) |
| | ¥276,000 | |
63666629 | GX-9000C100T2N2D000 | 1%LEL・0.1vol%(イソブタン)/0.1vol%(酸素)/0.1ppm(硫化水素)/1ppm(一酸化炭素) | 0-100%LEL・0-100.0vol%(イソブタン)/0-40.0vol%(酸素)/0-200.0ppm(硫化水素)/0-2000ppm(一酸化炭素) | ニューセラミック式(イソブタン)/定電位電解式(酸素・硫化水素・一酸化炭素) | イソブタン(爆発下限濃度/高濃度)・酸素・硫化水素・一酸化炭素 | C100T2N2D000 | ¥276,000 | ¥269,800 | ¥296,780(税込) |
| | ¥276,000 | |
63666638 | GX-9000C10000N1D000 | 1%LEL(メタン)/0.1vol%(酸素)/0.1ppm(硫化水素)/1ppm(一酸化炭素) | 0-100%LEL(メタン)/0-40.0vol%(酸素)/0-200.0ppm(硫化水素)/0-2000ppm(一酸化炭素) | ニューセラミック式(メタン)/定電位電解式(酸素・硫化水素・一酸化炭素) | メタン・酸素・硫化水素・一酸化炭素 | C10000N1D000 | ¥226,000 | ¥219,800 | ¥241,780(税込) |
| | ¥226,000 | |
63666647 | GX-9000C10000N2D000 | 1%LEL(イソブタン)/0.1vol%(酸素)/0.1ppm(硫化水素)/1ppm(一酸化炭素) | 0-100%LEL(イソブタン)/0-40.0vol%(酸素)/0-200.0ppm(硫化水素)/0-2000ppm(一酸化炭素) | ニューセラミック式(イソブタン)/定電位電解式(酸素・硫化水素・一酸化炭素) | イソブタン・酸素・硫化水素・一酸化炭素 | C10000N2D000 | ¥226,000 | ¥219,800 | ¥241,780(税込) |
| | ¥226,000 | |
63666656 | GX-9000C20000N1D000 | 1%LEL(メタン)/0.1vol%(酸素)/0.1ppm(硫化水素) | 0-100%LEL(メタン)/0-40.0vol%(酸素)/0-200.0ppm(硫化水素) | ニューセラミック式(メタン)/定電位電解式(酸素・硫化水素) | メタン・酸素・硫化水素 | C20000N1D000 | ¥209,000 | ¥208,800 | ¥229,680(税込) |
| | ¥209,000 | |
63666665 | GX-9000C20000N2D000 | 1%LEL(イソブタン)/0.1vol%(酸素)/0.1ppm(硫化水素) | 0-100%LEL(イソブタン)/0-40.0vol%(酸素)/0-200.0ppm(硫化水素) | ニューセラミック式(イソブタン)/定電位電解式(酸素・硫化水素) | イソブタン・酸素・硫化水素 | C20000N2D000 | ¥209,000 | ¥208,800 | ¥229,680(税込) |
| | ¥209,000 | |
63666674 | GX-9000C20000N5D000 | 1%LEL(アセチレン)/0.1vol%(酸素)/0.1ppm(硫化水素) | 0-100%LEL(アセチレン)/0-40.0vol%(酸素)/0-200.0ppm(硫化水素) | ニューセラミック式(アセチレン)/定電位電解式(酸素・硫化水素) | アセチレン・酸素・硫化水素 | C20000N5D000 | ¥209,000 | ¥208,800 | ¥229,680(税込) |
| | ¥209,000 | |
63666690 | GX-9000C30000N1D000 | 1%LEL(メタン)/0.1vol%(酸素)/1ppm(一酸化炭素) | 0-100%LEL(メタン)/0-40.0vol%(酸素)/0-2000ppm(一酸化炭素) | ニューセラミック式(メタン)/定電位電解式(酸素・一酸化炭素) | メタン・酸素・一酸化炭素 | C30000N1D000 | ¥209,000 | ¥208,800 | ¥229,680(税込) |
| | ¥209,000 | |
63666699 | GX-9000C30000N2D000 | 1%LEL(イソブタン)/0.1vol%(酸素)/1ppm(一酸化炭素) | 0-100%LEL(イソブタン)/0-40.0vol%(酸素)/0-2000ppm(一酸化炭素) | ニューセラミック式(イソブタン)/定電位電解式(酸素・一酸化炭素) | イソブタン・酸素・一酸化炭素 | C30000N2D000 | ¥209,000 | ¥208,800 | ¥229,680(税込) |
| | ¥209,000 | |
63666708 | GX-9000C400T1N1D000 | 1%LEL・0.1vol%(メタン)/0.1vol%(酸素) | 0-100%LEL・0-100.0vol%(メタン)/0-40.0vol%(酸素) | ニューセラミック式(メタン)/定電位電解式(酸素) | メタン(爆発下限濃度/高濃度)・酸素 | C400T1N1D000 | ¥239,000 | ¥238,800 | ¥262,680(税込) |
| | ¥239,000 | |
63666717 | GX-9000C400T2N2D000 | 1%LEL・0.1vol%(イソブタン)/0.1vol%(酸素) | 0-100%LEL・0-100.0vol%(イソブタン)/0-40.0vol%(酸素) | ニューセラミック式(イソブタン)/定電位電解式(酸素) | イソブタン(爆発下限濃度/高濃度)・酸素 | C400T2N2D000 | ¥239,000 | ¥238,800 | ¥262,680(税込) |
| | ¥239,000 | |
63666726 | GX-9000C400T4N4D000 | 1%LEL・0.1vol%(水素)/0.1vol%(酸素) | 0-100%LEL・0-100.0vol%(水素)/0-40.0vol%(酸素) | ニューセラミック式(水素)/定電位電解式(酸素) | 水素(爆発下限濃度/高濃度)・酸素 | C400T4N4D000 | ¥239,000 | ¥238,800 | ¥262,680(税込) |
| | ¥239,000 | |
63666735 | GX-9000C40000N1D000 | 1%LEL(メタン)/0.1vol%(酸素) | 0-100%LEL(メタン)/0-40.0vol%(酸素) | ニューセラミック式(メタン)/定電位電解式(酸素) | メタン・酸素 | C40000N1D000 | ¥205,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
| | ¥205,000 | |
63666744 | GX-9000C40000N2D000 | 1%LEL(イソブタン)/0.1vol%(酸素) | 0-100%LEL(イソブタン)/0-40.0vol%(酸素) | ニューセラミック式(イソブタン)/定電位電解式(酸素) | イソブタン・酸素 | C40000N2D000 | ¥205,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
| | ¥205,000 | |
63666760 | GX-9000C40000N5D000 | 1%LEL(アセチレン)/0.1vol%(酸素) | 0-100%LEL(アセチレン)/0-40.0vol%(酸素) | ニューセラミック式(アセチレン)/定電位電解式(酸素) | アセチレン・酸素 | C40000N5D000 | ¥205,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
| | ¥205,000 | |
63666769 | GX-9000C40000N4D000 | 1%LEL(水素)/0.1vol%(酸素) | 0-100%LEL(水素)/0-40.0vol%(酸素) | ニューセラミック式(水素)/定電位電解式(酸素) | 水素・酸素 | C40000N4D000 | ¥205,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
| | ¥205,000 | |