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ガスプラズマ処理を施した培養表面は均一な細胞の付着・広がり・増殖を提供します。

ガスプラズマを用いた培養表面の処理はウェル間・プレート間の均一性を保ちます。

ガスプラズマ処理を施した培養表面は均一な細胞の付着・広がり・増殖を実現します。 ノンパイロジェン。

平滑で透明なポリスチレン表面は光学的に歪みがなく顕微鏡観察に最適。ガスプラズマが作り出した均一な表面処理と優れた細胞付着性。親水性の培養表面処理により、細胞の付着・増殖を持続させます。ガンマー線滅菌済み。ノンパイロジェン。

ガスプラズマによる培養表面処理で、細胞の均一な増殖が可能です。 ベントキャップタイプは0.2μmの疎水性メンブレンフィルタが付いているので、コンタミネーションを最小限に抑えた上で、均一なガス交換が可能です。疎水性のメンブレンなので、中の培地が染み出す心配もありません。