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吸水性に優れています。標準溶剤とアルコールと共に使用することができます。半導体やマイクロエレクトロニクスの拭取り・清掃などに適しています。端をレーザーカットしており、発塵を低減しています。

吸水性に優れています。標準溶剤とアルコールと共に使用することができます。半導体やマイクロエレクトロニクスの拭取り・清掃などに適しています。端をレーザーカットしており、発塵を低減しています。

厚手タイプで高い吸水性です。 端をシーリングすることにより発塵を低減しています。 ISOクラス4の環境で洗浄し、2重パックになっています。

拭き取り性・吸水力に優れています。プロセスツール、チャンバクリーニング及び他の装置の内部拭き取りに適しています。毛羽等を残さず、対象物を傷つけにくいです。二酸化チタニウムを製造工程で使用しておりません。

厚手タイプで高い吸水性です。 端をシーリングすることにより発塵を低減しています。 ISOクラス4の環境で洗浄し、2重パックになっています。

潤滑剤、接着剤、残留物、および消毒剤を含むその他の溶液の塗布と除去に適しています。イソプロピルアルコール(IPA)、エタノール、アセトン、脱脂剤などの溶剤を使用したクリーニングに適しています。

クリーンルーム用プリウェットワイパーです。

2層構造により吸水性が680mL/m2と最大です。吸水性の高い2枚重ねの2重編みワイパーです。