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スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。 異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。

低い液圧にもかかわらず広角の扇形噴霧を発生させます。

中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生。ノズル複数配列時にパターンの両端をオーバーラップさせて使うと、流量分布が全幅において均等になる。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の広噴角円錐ノズルです。 噴角が120°のため、他のどのノズルよりも広い噴霧面積をカバーできます。 異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを採用していますので、目詰まりしにくいです。

1流体ノズルの中で最高の微粒化性能を持つ。環状スプレーパターンの極小噴量空円錐ノズル。微霧を発生可能。従来品と比較し異物通過径が1.3～2.6倍大きく、目詰まりしにくい。旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れる。

低い液圧にもかかわらず広角の扇形噴霧を発生させます。

スプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズル。細霧を発生可能。旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れる。

中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生。ノズルの噴霧方向は40°未満で調整可能。

スプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズル。異物通過径が大きく、目詰まりしにくい細霧発生ノズル。部品点数が少なくコンパクトな設計。ワーラーが取外し可能、メンテナンスが容易。

中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生。簡単着脱でメンテナンス時間を短縮。ツバ付きローレット形状で着脱時に力を入れやすい。取外し後にチップやパッキンが脱落しない構造。

ノズル軸心より偏心した扇形噴霧を発生し、スプレーパターン全域にわたり均等な流量分布。ノズルを複数配列した際に片方向の流れを作り出し、スプレー液溜まりや異物残りを解消。ノズルの斜方取付けが不要に。簡単着脱でメンテナンス時間を短縮。ツバ付きローレット形状で着脱時に力を入れやすい。取外し後にチップやパッキンが脱落しない構造。

ノズル軸心より偏心した扇形噴霧を発生し、スプレーパターン全域にわたり均等な流量分布。ノズルを複数配列した際のスプレー液溜まりを解消。ノズルの斜方取付けが不要になる一体形タイプ。

超低液圧力で広角かつ均等な扇形噴霧を発生。スプレー泡が立たないソフトな打力の小噴量タイプ。全品禁油処理。

スプレーパターン全域にわたり均等な流量分布の扇形噴霧を発生。単位面積当たりの打力が均一。

スプレーパターン全域にわたり均等な流量分布の扇形噴霧を発生。単位面積当たりの打力が均一。

1流体ノズルの中で最高の微粒化性能を持つ。環状スプレーパターンの極小噴量空円錐ノズル。微霧を発生可能。従来品と比較し異物通過径が1.3～2.6倍大きく、目詰まりしにくい。旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れる。

中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生。簡単着脱でメンテナンス時間を短縮。ツバ付きローレット形状で着脱時に力を入れやすい。取外し後にチップやパッキンが脱落しない構造。

中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生。ノズル複数配列時にパターンの両端をオーバーラップさせて使うと、流量分布が全幅において均等になる。

中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生。ノズル複数配列時にパターンの両端をオーバーラップさせて使うと、流量分布が全幅において均等になる。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。旋回子を使用せず、衝突流入により液の微粒化を図るノズルのため、異物通過径がきわめて大きいです。液の流入方向に対し、直角に噴霧します。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

スプレーパターン全域にわたり均等な流量分布の扇形噴霧を発生。単位面積当たりの打力が均一。簡単着脱でメンテナンス時間を短縮。ツバ付きローレット形状で着脱時に力を入れやすい。取外し後にチップやパッキンが脱落しない構造。ステンレス製で耐久性、耐熱性に優れる。耐摩耗性に優れたセラミックチップを採用。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

。スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

●スプレーパターンが円形で均等な流量分布の広噴角円錐ノズルです。●噴角が120°のため、他のどのノズルよりも広い噴霧面積をカバーできます。●異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを採用していますので、目詰まりしにくいです。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の広噴角円錐ノズルです。噴角が120度のため、他のどのノズルよりも広い噴霧面積をカバーできます。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを採用していますので、目詰まりしにくいです。

スプレーパターンが正方形で、均等な流量分布の充角錐ノズルです。スプレーパターンが円形の充円錐ノズルでの、複数配列時に生じる「すき間」問題を解消します。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを採用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

スプレーパターンが正方形で、均等な流量分布の充角錐ノズルです。スプレーパターンが円形の充円錐ノズルでの、複数配列時に生じる「すき間」問題を解消します。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを採用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

スプレーパターンが正方形で、均等な流量分布の充角錐ノズルです。スプレーパターンが円形の充円錐ノズルでの、複数配列時に生じる「すき間」問題を解消します。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを採用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

スプレーパターンが正方形で、均等な流量分布の充角錐ノズルです。スプレーパターンが円形の充円錐ノズルでの、複数配列時に生じる「すき間」問題を解消します。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを採用していますので、目詰まりしにくいです。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。簡単着脱でメンテナンス時間を短縮できます。ノズル内ワーラーも取外し可能です。ツバ付きローレット形状で着脱時に力を入れやすいです。取外し後にチップやパッキンが脱落しない構造です。ポリプロピレン樹脂製で、耐薬品性、耐熱性に優れます。噴霧流量によりノズル本体をカラー識別しています。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。小噴量～中噴量をラインアップしています。旋回子にX形ワーラーを使用しています。異物通過径が大きく目詰まりにしくいです。

平均粒子径が30ミクロン以下(※1)の”微霧”を発生する2流体空円錐ノズル。液供給は加圧装置が不要のサクションタイプ。※1 レーザードップラー法による測定値。