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スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。 異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。

1流体ノズルの中で最高の微粒化性能を持つ。環状スプレーパターンの極小噴量空円錐ノズル。微霧を発生可能。従来品と比較し異物通過径が1.3～2.6倍大きく、目詰まりしにくい。旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れる。

スプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズル。異物通過径が大きく、目詰まりしにくい細霧発生ノズル。部品点数が少なくコンパクトな設計。ワーラーが取外し可能、メンテナンスが容易。

1流体ノズルの中で最高の微粒化性能を持つ。環状スプレーパターンの極小噴量空円錐ノズル。微霧を発生可能。従来品と比較し異物通過径が1.3～2.6倍大きく、目詰まりしにくい。旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れる。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。

スプレーパターンが正方形で、均等な流量分布の充角錐ノズルです。スプレーパターンが円形の充円錐ノズルでの、複数配列時に生じる「すき間」問題を解消します。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを採用していますので、目詰まりしにくいです。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを使用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

スプレーパターンが正方形で、均等な流量分布の充角錐ノズルです。スプレーパターンが円形の充円錐ノズルでの、複数配列時に生じる「すき間」問題を解消します。異物通過径を大きくするため、旋回子にX形ワーラーを採用していますので、目詰まりしにくいです。機器装置の洗浄や冷却、消火のための散布として。

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