密度(g/cm3)2.51
軟化点(℃)736
製造方法ダウンドロー法
熱膨張係数(×10-7/℃)72
徐冷点(℃)557
歪点(℃)529
無アルカリガラスは、低膨張率・高耐熱性等が安定したガラスです。基板稜線は糸面加工です。
材質無アルカリガラス
仕様(ヤング率)10.7Mpsi
厚さ(mm)0.7
温度(℃)(歪点)669
密度2.38
熱膨張係数(×10-7/℃)31.7
無アルカリガラスは、低膨張率・高耐熱性等が安定したガラスです。基板稜線は糸面加工です。
仕様ヤング率:7300kgf/mm2
材質ITO膜付ソーダガラス
厚さ(mm)0.7
密度2.5
歪点(℃)~505
熱膨張係数90×10^-7/℃
材質ソーダ石灰ガラス
耐熱衝撃性に優れ、熱膨張が小さく、あらゆる分野で優れた耐熱性、耐衝撃性を発揮します。高い光透過性と光学的歪みが少ない特性をもっています。
公差外寸±0.5mm(規格品)
端面加工面取り仕上げ
Crのミラーコートで、パターニング用途等で使用可能です。
材質(基板)ソーダガラス
厚さ(mm)0.7
タイプクロム蒸着
膜厚1000Å
耐熱衝撃性に優れ、熱膨張が小さく、あらゆる分野で優れた耐熱性、耐衝撃性を発揮します。高い光透過性と光学的歪みが少ない特性をもっています。
材質青板(ソーダ)ガラス
厚さ(mm)1±0.2
公差外寸±0.5mm(規格品)
端面加工面取り仕上げ
単層誘電体膜です。
材質(基板)ソーダガラス
厚さ(mm)0.7
タイプ片面ARマルチコート
波長(nm)(対応)400~900
反射率(%)≦平均1
アルミ膜の上に保護膜が付いていますので、表面の汚れを拭き取ることも可能です。
材質(基板)ソーダガラス
厚さ(mm)0.7
タイプアルミ蒸着
波長(nm)(対応)400~700、900~1200
反射率(%)≧平均85
研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
抵抗値0.1~100Ω・cm
製造方法CZ法
位置【OF】110
方位【面】100
ガラス基板と、乳白色の薄いオパールとの2層から成る拡散板です。
高い拡散率を有し、光源の輝度分布を拡散し、光強度を均一化します。
測定系、観察系の光源に用いることにより拡散板全体が明るく光り、広い範囲の照明に効果を発揮します。
ガラス基板と、乳白色の薄いオパールとの2層から成る拡散板です。
高い拡散率を有し、光源の輝度分布を拡散し、光強度を均一化します。
測定系、観察系の光源に用いることにより拡散板全体が明るく光り、広い範囲の照明に効果を発揮します。
純水精密洗浄用ハンドスプレーです。
オイルフリーですので、油分流出の心配がありません。
純水対応ですので、金属イオンの溶出や錆の心配がありません。
プラスチック部品はPP樹脂、シール材はフッ素ゴムを使用しています。
半導体シリコンウェハーや、ガラス基板洗浄装置の槽内洗浄などに多く使用されています。
FTOガラスは、液晶ディスプレイ、光触媒、薄膜太陽電池基板、色素増感太陽電池、エレクトロクロミックガラスなどの分野でITO導電性ガラスの代替品として使用することができます。
100mm角のキャリアは、大日本スクリーン(株)製造のマスク自動洗浄機にセットできます。
用途マスクガラス処理用キャリア、水晶基板・液晶・ハイブリット基板処理
仕様(SCC)表面を超純水で洗浄処理しクリーンパックされた商品
材質セミプラスト(R)A(PFA)
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