汎用的な成膜用基板として使用されています。
各種成膜用基板として使用されています。
寸法(mm)10×10×0.5
研磨内容片面鏡面
材質(基板)CaF2
超電導用基板などとして使用されています。
寸法(mm)10×10×0.5
材質(基板)MgO
方位(100)
研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
抵抗値0.1~100Ω・cm
製造方法CZ法
位置【OF】110
方位【面】100
超電導用や燃料電池用基板などとして使用されています。
寸法(mm)10×10×0.5
材質(基板)YSZ
天然白雲母です。成膜用基板やAFM観察用などに使用されています。
材質(基板)天然マイカ
研磨内容劈開
密度(g/cm3)2.51
軟化点(℃)736
製造方法ダウンドロー法
熱膨張係数(×10-7/℃)72
徐冷点(℃)557
歪点(℃)529
材質ソーダ石灰ガラス
耐熱衝撃性に優れ、熱膨張が小さく、あらゆる分野で優れた耐熱性、耐衝撃性を発揮します。高い光透過性と光学的歪みが少ない特性をもっています。
材質テンパックス(R)
公差外寸±0.5mm(規格品)
使用温度(℃)230
最高使用温度(℃)490
端面加工面取り仕上げ
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