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各種成膜用基板として使用されています。
寸法(mm)10×10×0.5
研磨内容片面鏡面
材質(基板)CaF2
汎用的な成膜用基板として使用されています。
KBrの結晶をカットしたプレートです。パウダーのように圧し潰す手間がかかりません。試料を2枚のKBrプレートで挟みプレスするだけで錠剤が完成します。
材質KBr
超電導用基板などとして使用されています。
寸法(mm)10×10×0.5
材質(基板)MgO
方位(100)
研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
抵抗値0.1～100Ω・cm
製造方法CZ法
位置【OF】110
方位【面】100
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