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溶融石英は研磨板は、主に天然水晶を原料として製造しており、含有する不純物は、ppmレベルです。合成石英研磨板は、四塩化ケイ素を原料として製造しており、含有する不純物はppbレベルです。上下面を光学研磨加工しています。
材質合成石英ガラス
形状角
端面加工砂目、糸面取り仕上
溶融石英は研磨板は、主に天然水晶を原料として製造しており、含有する不純物は、ppmレベルです。合成石英研磨板は、四塩化ケイ素を原料として製造しており、含有する不純物はppbレベルです。上下面を光学研磨加工しています。
材質合成石英ガラス
形状丸
端面加工砂目、糸面取り仕上
溶融石英は研磨板は、主に天然水晶を原料として製造しており、含有する不純物は、ppmレベルです。合成石英研磨板は、四塩化ケイ素を原料として製造しており、含有する不純物はppbレベルです。上下面を光学研磨加工しています。
材質溶融石英ガラス
形状角
端面加工砂目、糸面取り仕上
溶融石英は研磨板は、主に天然水晶を原料として製造しており、含有する不純物は、ppmレベルです。合成石英研磨板は、四塩化ケイ素を原料として製造しており、含有する不純物はppbレベルです。上下面を光学研磨加工しています。
材質溶融石英ガラス
形状丸
端面加工砂目、糸面取り仕上
高純度材料を用いたガラスを少量からご提供、方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。多様な形状加工と表面処理が可能です(例:ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。
高純度材料を用いたガラスを少量からご提供、方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。多様な形状加工と表面処理が可能です(例:ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。
材質ソーダ石灰ガラス
不純物の少ない合成石英ガラス製ですので、コンタミネーションを抑えることができます。
化学的に安定していますので、耐薬品性が優れています。
材質合成石英ガラス(SiO2)
正の焦点を持つ光学レンズで、像の拡大や集光用途やリレー光学系にも使用されます。合成石英材を採用しているため、紫外域から赤外線波長域(900nm程度)まで高い透過率を有します。熱膨張係数が低いため、耐熱性に優れています。
材質合成石英
設計波長(nm)587.6
屈折率1.45850/nd
許容差外径:Φ+0/-0.1mm、中心厚:±0.2mm、焦点距離:±2%、表面品質:MIL60-40、偏芯:3分以内(3')
負の焦点距離を持つ光学用レンズで、像の縮小、光の発散用途に使用されます。光学系で焦点距離を伸ばす目的にも使用されます。主に投影用レンズとして使用されます。合成石英材を採用しているため、紫外域から赤外線波長域(900nm程度)まで高い透過率を有します。熱膨張係数が低いため、耐熱性に優れています。
材質合成石英
設計波長(nm)587.6
屈折率1.45850/nd
許容差外径: Φ+0/-0.1mm、中心厚:±0.2mm、焦点距離:±2%、表面品質:MIL60-40、偏芯 3分以内(3')
正の焦点距離を持つ光学用レンズで、像の拡大や集光用途に主に使用されます。合成石英材を採用しているため、紫外域から赤外線波長域(900nm程度)まで高い透過率を有します。熱膨張係数が低いため、耐熱性に優れています。一般的な使用法では、レンズの曲面側を被写体側に向けて使用します。
材質合成石英
設計波長(nm)587.6
屈折率1.45850/nd
面取(mm)0.2~0.5(45°)
許容差外径:Φ+0/-0.1mm、中心厚:±0.2mm、焦点距離:±2%、表面品質:MIL60-40、偏芯:3分以内(3')
負の焦点距離を持つ光学用レンズで、像の縮小、光の発散用途に使用されます。光学系で焦点距離を伸ばす目的にも使用されます。他のレンズで生じた収差を打ち消す用途でも使用されます。合成石英材を採用しているため、紫外域から赤外線波長域(900nm程度)まで高い透過率を有します。熱膨張係数が低い為、耐熱性に優れています。一般的な使用法では、レンズの曲面側を被写体側に向けて使用します。
材質合成石英
設計波長(nm)587.6
屈折率1.45850/nd
許容差外径:Φ+0/-0.1mm、中心厚:±0.2mm、焦点距離:±2%、表面品質:MIL60-40、偏芯3分以内(3')
直角面に対して垂直に入射した像は、90°反射します。斜面に対して垂直に入射した像は、直角面で2回反射し、倒立像となります。光の偏角や像の向きを調節するのに使用されます。
研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
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