フォトレジストやその他ファインケミカルのろ過に適用
親水性ナイロン66メンブラン
Advanced Pleat Technology(TM)(APT(TM))構造
大きなろ過面積
優れたゲル状異物除去能力
アウトガスとマイクロバブルの発生を低減
高流量・低圧力損失・ロングライフ
低コスト
低溶出カートリッジ
用途各種フォトレジスト、アルコール、アルカリ溶液、現像液、エッチング液、剥離液、ソルベント
最高使用温度(℃)50
材質(ろ材)ナイロン66
材質(構成パーツ)HDPE
微量金属(Na、Fe、Cr、Al等)、微量コロイド等のろ過に有効
ppbレベルまで除去
SHグレードは、特にNa、Feの除去効率に優れた製品
ゼータ電位による吸着作用と機械的ろ過作用とのダブルキャッチシステム
優れた粒子捕捉能カ
微粒子、コロイド粒子等の異物を効率良く捕捉
テスト用47mm、90mmディスクからカートリッジにスケールアップが可能
用途ファインケミカル:樹脂・有機溶剤、フォトレジスト:フォトレジスト原料樹脂・CD/HD用樹脂・液晶用顔料樹脂、オーバーコート材 等、洗浄液:IPA 等
材質セルロース、酸洗浄済みケイソウ土、レジン
最高使用温度(℃)82
高純度薬品に適用
疎水性のPTFEメンブランとポリプロピレンによる構造
優れた耐液性
ロスの低減
速いスタートアップ
長いフィルターライフ
優れたゲル、微粒子除去性能
Advanced Pleat Technology(TM)(APT(TM))構造
大きなろ過面積
コンパクトな構造
残液も少なく高価な薬液の廃棄ロスも低減
システムの初期稼動時間の低減
高流量・低圧力損失・ロングライフ
用途酸、アルカリ、溶剤、フォトレジスト、反射防止膜、メッキ液、ガラス基板、CD、DVD、燃料電池
最高使用温度(℃)80
材質(ろ材)PTFE
材質(構成パーツ)ポリプロピレン
親水性ナイロン66メンブラン
FlexN(TM)マルチゾーンメンブランテクノロジー
より多くの粒子の捕捉が可能
Advanced Pleat Technology(TM)(APT(TM))構造
大きなろ過面積
高流量・低圧力損失・ロングライフ
低コスト
低溶出カートリッジ
用途精密部品洗浄、マイクロ・マシン、燃料電池、超純水、フォトレジスト、ファインケミカル、TFT 液晶、有機EL、メッキ、FPD
材質ナイロン66
最高使用温度(℃)80
少量生産ラインに適用
実績豊かなPolypro-Klean(TM) ろ材を使用
コンパクトな形状
ハウジングなしで、そのままラインにつなぐことが可能
ろ材をカプセルに熱溶着
低溶出
純水洗浄
最終フィルターとして安心して使用可能
製造装置、洗浄装置に組込可能
用途カラーレジスト、カラーレジスト顔料、フォトレジスト、コーティング液、オーバーコート液(LCD用カラーフィルター、CD等)、純水、各種溶剤 等
材質ポリプロピレン
フィルターカプセル型
最高使用温度(℃)60
接続形状(端末)"1/4"" オス NPT
Advanced Pleat Technology(TM)(APT(TM))構造
大きなろ過面積
最終チェックフィルターとしても使用可能
オールポリプロピレン製のクリーンな構造
幅広い耐薬品性
低溶出
高流量・低圧力損失・ロングライフ
用途純水、1次純水のプレ・ファイナルフィルター、洗浄水のファイナルフィルター、機能性樹脂のプレ・ファイナルフィルター、フォトレジスト原料樹脂、CD、HDのメッキ液、液晶製造/洗浄装置内フィルター、各種薬品 等
材質ポリプロピレン
最高使用温度(℃)80
関連キーワード