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フォトレジストやその他ファインケミカルのろ過に適用
親水性ナイロン66メンブラン
Advanced Pleat Technology(TM)(APT(TM))構造
大きなろ過面積
優れたゲル状異物除去能力
アウトガスとマイクロバブルの発生を低減
高流量・低圧力損失・ロングライフ
低コスト
低溶出カートリッジ
用途各種フォトレジスト、アルコール、アルカリ溶液、現像液、エッチング液、剥離液、ソルベント
最高使用温度(℃)50
材質(ろ材)ナイロン66
材質(構成パーツ)HDPE
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