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高精度に研磨された平面基板にアルミを蒸着したミラーです。あらゆる入射角度で高い反射率を得ることができます。
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。
高精度に研磨された平面基板にアルミを蒸着したミラーです。あらゆる入射角度で高い反射率を得ることができます。
高精度に研磨された平面基板にアルミを蒸着したミラーです。あらゆる入射角度で高い反射率を得ることができます。
ジンバル構造になっているので、ミラーの反射面が回転中心で、ミラーの角度を自由に変えることができます。レーザビームの取り回しや反射ビーム方向を切り替える時に使用できます。
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。
基板の表・裏面に僅かなウェッジをつけることで、表・裏面による反射ビームを分離させることができます。ビームサンプラーや干渉計の参照原器として使用できます。
片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5～4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。
片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5～4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。
可視から赤外の広い波長域で高反射率は得られる銀(Ag)をコートした平面全反射ミラーです。銀の上に保護膜をコートしているので、酸化しにくく、長時間使用することができます。
高精度に研磨された平面基板にアルミを蒸着したミラーです。高い平行度が出ているのでジグの角度出しに使えます。
簡易実験や照明光学系など、レーザ用の低スクラッチ研磨を必要としない用途に最適です。その他の面精度や反射率はレーザ用のアルミミラー(TFA)と同じです。
近赤外・赤外域の広い帯域で高反射率の金膜をコーティングした全反射ミラーです。金膜の膜付着強化として、クロム膜を極めて薄くアンダーコーティングしています。シリコン基板は金膜の付着力が非常に強く、熱伝導率が高く(ガラスの約111倍放熱性が良い)、ガラス基板に比べ耐熱性に優れています。
調整ネジの操作方向を上にすることで、ホルダーの調整に取られるスペースをホルダーの周りから無くしました。ホルダー同士を近接させて設置することができ、光学系を非常にコンパクトに納めることができます。
芯出し機構を小型化した、芯出しレンズホルダーです。芯出し調整機構がコンパクトなので低い光軸で使用することができます。
可視から赤外の広い波長域で使用できるハーフミラーです。プレートタイプなので、有効径を大きくしてもキューブのように重くはなりません。同軸落射観察系などの照明系と観察光学系を合わせるハーフミラーとしても使用できます。
マイケルソン干渉計や2枚のミラー間で光を往復させる光学系など、45°以下の入射角度でミラーを使用する場合は0°-45°誘多膜ミラーを使用します。入射角度を0°で使用するときと45°で使用するときで、ミラーを共用で使うことができ、かつ高い反射率が得られます。入射角度が0°から45°の間で非常に高い反射率が得られます。入射角度を固定して使えば、広帯域ミラーとしても利用できます。膜に吸収がないので、経時変化が少なく、連続的なレーザの照射にも耐えられます。
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。
簡易実験や照明光学系など、高い表面品質が要求されない光学素子に使用する基板です。面精度は、レーザ用の平面基板と同じです。
平行平面基板に特殊な研磨を行うことで、表面粗さを0.2nm(Ra)以下にしました。基板の散乱の影響が気になる高出力レーザ用ミラーやX線用のミラーの基板として使用できます。
メーカーの手動ステージ、ホルダーなどに使用している粗粗微動マイクロメーターヘッドです。
ジンバル構造になっているので、ミラーの反射面を回転中心にして、ミラーの角度を自由に変えることができます。レーザビームの取り回しや反射ビーム方向を切り替える時に使用できます。
45度入射の透過ビームがミラー枠の端で欠けないように、ミラー枠形状を改良したジンバル式ミラーホルダーです。
片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5～4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。
2枚の板で構成されている、たいへんシンプルな形のキネマティックミラーホルダーです。
高安定型キネマティックミラーホルダーにメーカーオリジナルのロック機構(NOMI LOCK TM を搭載しています。
基板の材質や厚さとコーティングの条件を最適化することで、高面精度のミラーを実現しました。コーティング後の面精度λ/10を保証しています。
密閉容器の中や隔壁の反対側に光を通す場合に使用する高品質の窓です。YAGレーザの波長に合わせ透過率を高めているので、レーザのウィンドとして使用できます。レーザの光路中に垂直にこの窓板を挿入しても、透過ビームの角度は変わらない平行平面タイプと、表面と裏面との干渉の影響が小さいウェッジタイプがあります。
高精度に研磨された平面基板にアルミを蒸着したミラーです。あらゆる入射角度で高い反射率を得ることができます。
可視域帯だけではなく、紫外または赤外の帯域を広くカバーした、高反射率のミラーです。不可視光を含む分光実験や、黒体輻射スペクトルの伝播に使用できます。
レーザの強度をモニターしたり、光学系の一部分の光を観察する場合に、光路中にビームサンプラーを挿入して、入射光量の5%だけを光路外に取り出します。
45度入射の透過ビームがミラー枠の端で欠けないように、ミラー枠形状を改良したジンバル式ミラーホルダーです。反射ビーム径とほとんど同じ程度の透過ビーム径を得ることができます。
YAGレーザ(1064nm)を高調波変換したレーザ光(355nm、532nm)を波長で分離または合波する場合に使用します。反射率波長が違う3種類をご用意しています。誘電体多層膜を使用しているので、膜に吸収がなく、エネルギー密度の高いレーザ光にも使用できます。プレートタイプのため、ビーム径の大きなレーザにも使用できます。
紫外、可視域、赤外の広い波長帯域で使用できるプレート型のハーフミラーです。多波長レーザや白色光原の透過・反射分岐に使用できます。
エネルギーが大きい、パルスNd-YAGレーザ(またはYb-YLFレーザ)やエキシマレーザの光学系に使用するためのミラーです。
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