「a4 6面」の検索結果

M6用ベースプレートBSPシリーズの専用補助部品です。ベースプレートに限らず、底面にプレート状の張り出しがある装置・機器等の固定も可能です。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。

高精度に研磨された平面基板にアルミを蒸着したミラーです。あらゆる入射角度で高い反射率を得ることができます。

高精度に研磨された平面基板にアルミを蒸着したミラーです。あらゆる入射角度で高い反射率を得ることができます。

ガラス基板の片面にアルミ膜を蒸着したミラーです。大きいサイズを安価にご用意いたしました。可視、近赤外光のミラーとして使用できます。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。

片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5～4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。

高剛性・高精度が求められる計測装置や検査装置の位置決めに最適なステッピングモータ駆動ステージです。

専用ステージコントローラ(SHOT-302GS/304GS・HIT-M・HIT-S)を使用する事で、高精度で信頼性の高いフルクローズドループシステムを実現する事ができます。

半導体ウェハーのマーカなどのアライメントに使用する微小角調整用の自動回転ステージです。