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レーザ共振器のミラーの基板として使用する凹面基板です。凹面と裏面の平面が高い面精度で加工されています。外径サイズや焦点距離で細分化された豊富なバリエーションの中から、仕様に合わせご選定いただけます。裏面も研磨されているので、励起レーザの入力やパワー検出用のサンプル光の取り出しが可能です。曲率半径の精度や面精度が高いので凸レンズのニュートン原器としても使用できます。反射望遠鏡やランプ光源の反射鏡の凹面ミラー基板(TCA)もご用意しています。※凹面の外周稜線には面取りが施されており、コバ厚(te)はバラツキを生じることがあります。このため、裏面側を基準面としてご使用ください。

レーザ共振器のミラーの基板として使用する凹面基板です。凹面と裏面の平面が高い面精度で加工されています。外径サイズや焦点距離で細分化された豊富なバリエーションの中から、仕様に合わせご選定いただけます。裏面も研磨されているので、励起レーザの入力やパワー検出用のサンプル光の取り出しが可能です。曲率半径の精度や面精度が高いので凸レンズのニュートン原器としても使用できます。反射望遠鏡やランプ光源の反射鏡の凹面ミラー基板(TCA)もご用意しています。※凹面の外周稜線には面取りが施されており、コバ厚(te)はバラツキを生じることがあります。このため、裏面側を基準面としてご使用ください。

レーザ共振器のミラーの基板として使用する凹面基板です。凹面と裏面の平面が高い面精度で加工されています。外径サイズや焦点距離で細分化された豊富なバリエーションの中から、仕様に合わせご選定いただけます。裏面も研磨されているので、励起レーザの入力やパワー検出用のサンプル光の取り出しが可能です。曲率半径の精度や面精度が高いので凸レンズのニュートン原器としても使用できます。反射望遠鏡やランプ光源の反射鏡の凹面ミラー基板(TCA)もご用意しています。※凹面の外周稜線には面取りが施されており、コバ厚(te)はバラツキを生じることがあります。このため、裏面側を基準面としてご使用ください。

レーザ共振器のミラーの基板として使用する凹面基板です。凹面と裏面の平面が高い面精度で加工されています。外径サイズや焦点距離で細分化された豊富なバリエーションの中から、仕様に合わせご選定いただけます。裏面も研磨されているので、励起レーザの入力やパワー検出用のサンプル光の取り出しが可能です。曲率半径の精度や面精度が高いので凸レンズのニュートン原器としても使用できます。反射望遠鏡やランプ光源の反射鏡の凹面ミラー基板(TCA)もご用意しています。※凹面の外周稜線には面取りが施されており、コバ厚(te)はバラツキを生じることがあります。このため、裏面側を基準面としてご使用ください。

レーザ共振器のミラーの基板として使用する凹面基板です。凹面と裏面の平面が高い面精度で加工されています。外径サイズや焦点距離で細分化された豊富なバリエーションの中から、仕様に合わせご選定いただけます。裏面も研磨されているので、励起レーザの入力やパワー検出用のサンプル光の取り出しが可能です。曲率半径の精度や面精度が高いので凸レンズのニュートン原器としても使用できます。反射望遠鏡やランプ光源の反射鏡の凹面ミラー基板(TCA)もご用意しています。※凹面の外周稜線には面取りが施されており、コバ厚(te)はバラツキを生じることがあります。このため、裏面側を基準面としてご使用ください。

2面の底面を挟む直角稜線を研磨加工で鋭く仕上げたプリズムです。直角稜を面取りしていないので、斜面側から覗くと直角稜の線が非常に細くなり、継ぎ目のない自然な反射像を観察することができます。

下板と移動テーブル(上板)に直接ガイドを加工・焼入れ研削し、スチールボールを配列させた、2枚板構成の一体加工型の高精度直線移動ガイドです。

本体材質にはSUS440C相当、表面処理には無電解ニッケルメッキ処理を施しており防錆に優れています。※マイクロメーターヘッドを固定している部品やマイクロメーターヘッドの種類によりステージ上面から突出している場合があります。※ステージに取り付ける試料の形状により、固定できない場合や移動量が確保できない場合がありますのでご注意ください。

焼入れされたスチールステージ製の本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高剛性汎用型ステンレスステージです。

可視域全域で波長に依存しない位相差を与えることができます。白色光源の偏光方位を可変する光学系や偏光を使った分光計測などに使用できます。

面精度保証ミラー(HTFM)をキネマティックミラーホルダーにセットし、ミラーに応力がかからないように接着した調整機構付き高反射ミラーです。ホルダーにミラーを組込み接着した後でミラーの面精度を保証した製品です。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度・高剛性ステンレスステージです。

ペランブロッカプリズムはブリュスター分散プリズムの一種で、入射方向に対し直角で出射する特徴があります。YAGレーザをブリュスター角度で入射させると、基本波(1064nm)と2倍波(532nm)をビームを分離することができます。ブリュスター角度と臨界角を使用しているので、反射による損失が発生せず、高い透過率が得られます。ペランブロッカプリズムはコーティングがないので、高エネルギーのパルスレーザでも使用することができます。プリズム入射面で反射するYAGの基本波(不可視光)、または、2倍波(緑)のビームの光量が最小になる角度(ブリュスター角度)に合わせて使用します。レーザビームの偏光方向はプリズムの底面と平行になるように変換してご使用ください。多波長発振ののArレーザの分光にも使用できます。※紫外波長の出射ビームはブリュスター角度から外れているので、無反射にはなりません。※非偏光の分散プリズムとしても使用できますが、ブリュスター角度で入射させないと、入射角度に対し直角に出射しません。※S偏光のレーザビームを入射させても分光することはできますが、入射面と出射面で反射損失が発生します。※ノーコート面に指紋や汚れが付くと、全反射や無反射の効果が得られなくなります。※ノーコート面には、何物にも接触させないでご使用ください。※実測のA・B寸法は面取りを含むので、若干短くなります。※寸法公差は面取りを含まない各面の交差位置で定義されます。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度・高剛性ステンレスステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度・高剛性ステンレスステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度・高剛性ステンレスステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度・高剛性ステンレスステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度・高剛性ステンレスステージです。

ホルダーにフレネルロム波長板を組込んだ製品です。λ/2板(FRH-102、FRH-152)は素子の光軸とホルダーの回転軸が調整されています。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。滑らかな移動が得られるため、頻繁に操作する用途に最適です。クランプ時の安定性を向上させるためディスククランプを採用しています。ガイド一体型構造により、回転中位置変位量Φ0.007mm以下の高性能を実現しました。アタッチメントピン(GOHT-AP)は、単品でもご用意しています。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

2点ある楕円の焦点の一方の焦点を通る光線は楕円面で反射され、もう一方の焦点を通ります。この原理を利用して、光源を一方の焦点に置くことで、もう一方の焦点に光を集めることができます。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度自動ゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度自動ゴニオステージです。

微弱なフォトダイオードの出力電流を電圧に変換するトランスインピーダンスアンプです。

小型・薄型・高耐久性の3要素を兼ね備えたクロスローラ自動ステージです。