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CRSガス精製フィルター取付キット
1セット
1,298 税込1,428
24日以内出荷
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高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2 精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ブタンより重い) 含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。
1本
19,980 税込21,978
24日以内出荷
バリエーション一覧へ (16種類の商品があります)

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2 精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ブタンより重い) 含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。
1本
21,980 税込24,178
17日以内出荷から43日以内出荷
バリエーション一覧へ (16種類の商品があります)

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2、クリーンドライエア CDA) ら炭化水素(ブタンより重い)を数ppbレベルまで除去します。炭化水素を含まないガスを必要とするほとんどのアプリケーションに推奨します。
1本
15,980 税込17,578
24日以内出荷から33日以内出荷
バリエーション一覧へ (16種類の商品があります)

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2、メタン、クリーンドライエア CDA) ら水分を低 pb ベルまで除去します。 乾燥ガスを必要とするあらゆるアプリケーションに推奨します。
1本
15,980 税込17,578
24日以内出荷
バリエーション一覧へ (19種類の商品があります)

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2の精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素や水分を含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。
1本
22,980 税込25,278
24日以内出荷から33日以内出荷
バリエーション一覧へ (16種類の商品があります)