「ゴム手袋 SS」の検索結果
関連キーワード
耐久性耐制電性に優れ、静電気拡散性を有するニトリル製ゴム手袋です。合成ゴムを使用しておりコンタミネーションが少ない手袋です。
全長(cm)約30.0(12インチ)
材質NBR(ニトリルゴム)
色ホワイト
厚さ(mm)約0.14(手の平)
規格クラス100対応
機能耐久性、耐制電性(表面抵抗率：10^11Ω/□≦)、ピュアパック(純水洗浄、残留イオン・パーティクル管理商品)、ダブルクロリネーション、クリーンルーム用2重包装
粉有無粉無
入数(枚)1000
仕様【残留パーティクル、液中(0.5-20μm)】＜1200、【残留物質、シリコン】検出なし、アミド：検出なし、フタル酸エステル類：検出なし、【残留イオン(μg/cm2)、F-】＜0.002、Cl-：＜0.2、Br-：＜0.005、NO3-：＜0.25、PO43-(リン酸イオン)：＜0.01、SO42-(硫酸イオン)：＜0.05、Li+：＜0.002、Na+：＜0.03、NH4+：＜0.01、K+：＜0.01、Mg2+：＜0.01、Ca2+：＜0.15、【検査場所】和歌山CIC、【測定方法】JIS B9923タンブリング法、【サンプル】1-4773-53、【測定データ】ランダムに選出した検体10双のトータル値(3回平均)
タイプハイグリップ(全面エンボス)
表面抵抗率(Ω)10^11/□≦
指先までぴったりフィットし、作業性に優れたゴム手袋です。
材質天然ゴム
全長(mm)約300(12インチ)
厚さ(mm)約0.17(手の平)
色ベージュ
仕様【残留パーティクル、液中(0.5-20μm)】＜1200、【残留物質、シリコン】検出なし、アミド：検出なし、フタル酸エステル類：検出なし、【残留イオン(μg/cm2)、F-】＜0.03、Cl-：＜2.0、Br-：＜0.03、NO3-：＜0.8、PO43-(リン酸イオン)：＜0.03、SO42-(硫酸イオン)：＜0.8、Li+：＜0.01、Na+：＜0.10、NH4+：＜0.01、K+：＜0.03、Mg2+：＜0.01、Ca2+：＜1.0、【検査場所】和歌山CIC、【測定方法】JIS B9923タンブリング法、【測定データ】ランダムに選出した検体10双のトータル値(3回平均)
指先までぴったりフィットし、作業性に優れたゴム手袋です。
入数(枚)1000
材質天然ゴム
全長(mm)約300(12インチ)
厚さ(mm)約0.14(手の平)
色ベージュ
仕様【残留パーティクル、液中(0.5-20μm)】＜1200、【残留物質、シリコン】検出なし、アミド：検出なし、フタル酸エステル類：検出なし、【残留イオン(μg/cm2)、F-】＜0.03、Cl-：＜2.0、Br-：＜0.03、NO3-：＜0.8、PO43-(リン酸イオン)：＜0.03、SO42-(硫酸イオン)：＜0.8、Li+：＜0.01、Na+：＜0.10、NH4+：＜0.01、K+：＜0.03、Mg2+：＜0.01、Ca2+：＜1.0、【検査場所】和歌山CIC、【測定方法】JIS B9923タンブリング法、【測定データ】ランダムに選出した検体10双のトータル値(3回平均)
指先までぴったりフィットし、作業性に優れたゴム手袋です。
入数(枚)1000
材質天然ゴム
全長(mm)約300(12インチ)
厚さ(mm)約0.14(手の平)
色ベージュ
仕様【残留パーティクル、液中(0.5-20μm)】＜1200、【残留物質、シリコン】検出なし、アミド：検出なし、フタル酸エステル類：検出なし、【残留イオン(μg/cm2)、F-】＜0.03、Cl-：＜2.0、Br-：＜0.03、NO3-：＜0.8、PO43-(リン酸イオン)：＜0.03、SO42-(硫酸イオン)：＜0.8、Li+：＜0.01、Na+：＜0.10、NH4+：＜0.01、K+：＜0.03、Mg2+：＜0.01、Ca2+：＜1.0、【検査場所】和歌山CIC、【測定方法】JIS B9923タンブリング法、【測定データ】ランダムに選出した検体10双のトータル値(3回平均)、【パーティクルサイズ(μm)】0.3～0.5未満/76、0.5～1.0未満/50、1.0～2.0未満/26、2.0～5.0未満/4、5.0以上/10※測定値です。(保証値ではありません。)
指先までぴったりフィットし、作業性に優れたゴム手袋です。
入数(枚)1000
材質天然ゴム
全長(mm)約300(12インチ)
厚さ(mm)約0.14(手の平)
色ベージュ
仕様【残留パーティクル、液中(0.5-20μm)】＜1200、【残留物質、シリコン】検出なし、アミド：検出なし、フタル酸エステル類：検出なし、【残留イオン(μg/cm2)、F-】＜0.03、Cl-：＜2.0、Br-：＜0.03、NO3-：＜0.8、PO43-(リン酸イオン)：＜0.03、SO42-(硫酸イオン)：＜0.8、Li+：＜0.01、Na+：＜0.10、NH4+：＜0.01、K+：＜0.03、Mg2+：＜0.01、Ca2+：＜1.0、【検査場所】和歌山CIC、【測定方法】JIS B9923タンブリング法、【測定データ】ランダムに選出した検体10双のトータル値(3回平均)
耐久性に優れ、静電気拡散性を有するニトリル製ゴム手袋です。合成ゴムを使用しておりコンタミネーションが少ない手袋です。
機能耐久性
入数(枚)1000
材質NBR(ニトリルゴム)
全長(mm)約300(12インチ)
表面抵抗率(Ω)10^11/□≦
厚さ(mm)約0.14(手の平)
色ホワイト
仕様【残留パーティクル、液中(0.5-20μm)】＜1200、【残留物質、シリコン】検出なし、アミド：検出なし、フタル酸エステル類：検出なし、【残留イオン(μg/cm2)、F-】＜0.002、Cl-：＜0.2、Br-：＜0.005、NO3-：＜0.25、PO43-(リン酸イオン)：＜0.01、SO42-(硫酸イオン)：＜0.05、Li+：＜0.002、Na+：＜0.03、NH4+：＜0.01、K+：＜0.01、Mg2+：＜0.01、Ca2+：＜0.15、【検査場所】和歌山CIC、【測定方法】JIS B9923タンブリング法、【サンプル】1-4773-53、【測定データ】ランダムに選出した検体10双のトータル値(3回平均)
耐久性に優れ、静電気拡散性を有するニトリル製ゴム手袋です。合成ゴムを使用しておりコンタミネーションが少ない手袋です。
仕様【検査場所】和歌山CIC、【測定法】JIS B9923タンブリング法、【測定データ】ランダムに選出検体10双のトータル値(3回平均)、【パーティクルサイズ(μm)/ハイグリップタイプ(指エンボス)】0.3～0.5未満/12、0.5～1.0未満/3、1.0～2.0未満/1、2.0～5.0未満/0、5.0以上：0※測定値です。保障値ではありません。、【残留パーティクル、液中(0.5-20μm)】＜1200、【残留物質、シリコン】検出なし、アミド：検出なし、フタル酸エステル類：検出なし、【残留イオン(μg/cm2)、F-】＜0.002、Cl-：＜0.2、Br-：＜0.005、NO3-：＜0.25、PO43-(リン酸イオン)：＜0.01、SO42-(硫酸イオン)：＜0.05、Li+：＜0.002、Na+：＜0.03、NH4+：＜0.01、K+：＜0.01、Mg2+：＜0.01、Ca2+：＜0.15
厚さ(mm)約0.14(手の平)
機能耐久性
耐久性に優れ、静電気拡散性を有するニトリル製ゴム手袋です。合成ゴムを使用しておりコンタミネーションが少ない手袋です。
仕様【残留パーティクル、液中(0.5-20μm)】＜1200、【残留物質、シリコン】検出なし、アミド：検出なし、フタル酸エステル類：検出なし、【残留イオン(μg/cm2)、F-】＜0.002、Cl-：＜0.2、Br-：＜0.005、NO3-：＜0.25、PO43-(リン酸イオン)：＜0.01、SO42-(硫酸イオン)：＜0.05、Li+：＜0.002、Na+：＜0.03、NH4+：＜0.01、K+：＜0.01、Mg2+：＜0.01、Ca2+：＜0.15、【検査場所】和歌山CIC、【測定方法】JIS B9923タンブリング法、【サンプル】1-4773-53、【測定データ】ランダムに選出した検体10双のトータル値(3回平均)
厚さ(mm)約0.14(手の平)
機能耐久性
表面抵抗率(Ω)10^11/□≦
強力グリップ 。ラテックスのたんぱく質を除去しアレルギーの心配を大幅に軽減 。パウダーフリーでも脱着がスムーズ
仕様左右兼用
材質ラテックスゴム(タンパク質軽減)
厚さ(mm)指：最小0.14、掌部：最小0.12、袖口：最小0.10
入数(枚)1000
全長(cm)24
粉有無粉無
エンボス加工指先エンボス
独自開発した加硫促進剤不使用のクリーンルーム用手袋。、AF製品の低アレルギー性はそのままに、強いグリップ性と優れた柔軟性を実現。、従来の加硫促進剤不使用手袋に比べ、強いグリップ力を軽減。、優れた柔軟性により、圧迫感や装着時の破断を軽減。
仕様強グリップタイプ、純水洗浄品(クリーンパック クラス100)、加硫促進剤不使用
材質ニトリルゴム
入数(枚)1000
機能柔軟性
全長(cm)30
粉有無パウダーフリー
ハロゲンフリーで環境にやさしい 帯電防止効果で静電気の影響を極力抑える。 非常に柔らかい素材。 肌に優しい素材を使用
材質ニトリル
入数(枚)1000
機能帯電
・左右兼用 ・ディスポーザブル ・全面滑り止めエンボス加工 ・表面 スムース・全長29cm 厚手 ロングタイプで袖口カバー
入数(枚)1000
全長(cm)29
関連キーワード
