1軸アクチュエータ SE4510B(E3) ピン用穴有

1軸アクチュエータ SE4510B(E3) ピン用穴有 黒田精工

ボールねじと直線案内機器を一体化し、複雑な精度調整が不要、取付工数の大幅な削減が可能。
直線運動部は、ボールねじ溝と同様にゴシックアーチを採用し、高精度の位置決め精度が可能。
U字形状のガイドレールの採用でコンパクトで高剛性を実現。
U字形状のガイドレールの中にスライドブロックを配置し、低断面構造とし省スペース化を実現。
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15183367 SE4510B-340W-E3NY-LN-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 340 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15183385 SE4510B-340W-E3NY-LS-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 340 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15183403 SE4510B-340W-E3NC-NN-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 340 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15183428 SE4510B-340W-E3NC-NS-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 340 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15183446 SE4510B-340W-E3NC-LN-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 340 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15183464 SE4510B-340W-E3NC-LS-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 340 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15183482 SE4510B-340W-E3NP-NN-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 340 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15183507 SE4510B-340W-E3NP-NS-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 340 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15183525 SE4510B-340W-E3NP-LN-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 340 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15183543 SE4510B-340W-E3NP-LS-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 340 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15199162 SE4510B-440W-E3NN-NN-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 440 なし B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15199187 SE4510B-440W-E3NN-NS-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 440 なし B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15199205 SE4510B-440W-E3NN-LN-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 440 なし B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15199223 SE4510B-440W-E3NN-LS-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 440 なし B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15199248 SE4510B-440W-E3NM-NN-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 440 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15199266 SE4510B-440W-E3NM-NS-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 440 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15199327 SE4510B-440W-E3NY-NN-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 440 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15199345 SE4510B-440W-E3NY-NS-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 440 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15199442 SE4510B-440W-E3NC-LN-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 440 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15199467 SE4510B-440W-E3NC-LS-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 440 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15199485 SE4510B-440W-E3NP-NN-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 440 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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15199503 SE4510B-440W-E3NP-NS-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 440 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
265,600
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15199528 SE4510B-440W-E3NP-LN-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 440 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
286,100
229,800
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15199546 SE4510B-440W-E3NP-LS-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 440 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
287,600
229,800
252,780 (税込)
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15215165 SE4510B-540W-E3NN-NN-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 540 なし B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
264,000
199,800
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15215183 SE4510B-540W-E3NN-NS-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 540 なし B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
265,500
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15215208 SE4510B-540W-E3NN-LN-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 540 なし B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
288,000
229,800
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15215226 SE4510B-540W-E3NN-LS-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 540 なし B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
289,500
229,800
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15215244 SE4510B-540W-E3NM-NN-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 540 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
276,000
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15215262 SE4510B-540W-E3NM-NS-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 540 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
277,500
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15215287 SE4510B-540W-E3NM-LN-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 540 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
300,000
239,800
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15215305 SE4510B-540W-E3NM-LS-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 540 M(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
301,500
239,800
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15215323 SE4510B-540W-E3NY-NN-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 540 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
276,000
219,800
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15215348 SE4510B-540W-E3NY-NS-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 540 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
277,500
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300,000
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15215384 SE4510B-540W-E3NY-LS-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 540 Y(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
301,500
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15215445 SE4510B-540W-E3NC-LN-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 540 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
300,000
239,800
263,780 (税込)
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15215463 SE4510B-540W-E3NC-LS-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 540 C(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
301,500
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15215488 SE4510B-540W-E3NP-NN-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 540 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
276,000
219,800
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15215506 SE4510B-540W-E3NP-NS-PS E3 標準仕様(黒染め) SE45 540 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
277,500
219,800
241,780 (税込)
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15215524 SE4510B-540W-E3NP-LN-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 540 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
300,000
239,800
263,780 (税込)
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15215542 SE4510B-540W-E3NP-LS-PS E3 防錆黒色被膜処理 SE45 540 P(フォトマイクロセンサ) B(ロングブロック2個付) 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) 10 なし
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