| 15231168 | SE4510B-640W-E3NN-NN-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 640 | なし | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥285,000 | ￥229,800 | ￥252,780(税込) |
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| 15231186 | SE4510B-640W-E3NN-NS-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 640 | なし | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥286,500 | ￥229,800 | ￥252,780(税込) |
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| 15231204 | SE4510B-640W-E3NN-LN-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 640 | なし | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥311,000 | ￥249,800 | ￥274,780(税込) |
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| 15231222 | SE4510B-640W-E3NN-LS-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 640 | なし | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥312,500 | ￥249,800 | ￥274,780(税込) |
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| 15231247 | SE4510B-640W-E3NM-NN-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 640 | M(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥297,000 | ￥239,800 | ￥263,780(税込) |
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| 15231265 | SE4510B-640W-E3NM-NS-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 640 | M(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥298,500 | ￥239,800 | ￥263,780(税込) |
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| 15231283 | SE4510B-640W-E3NM-LN-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 640 | M(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥323,000 | ￥259,800 | ￥285,780(税込) |
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| 15231308 | SE4510B-640W-E3NM-LS-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 640 | M(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥324,500 | ￥259,800 | ￥285,780(税込) |
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| 15231326 | SE4510B-640W-E3NY-NN-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 640 | Y(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥297,000 | ￥239,800 | ￥263,780(税込) |
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| 15231344 | SE4510B-640W-E3NY-NS-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 640 | Y(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥298,500 | ￥239,800 | ￥263,780(税込) |
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| 15231362 | SE4510B-640W-E3NY-LN-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 640 | Y(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥323,000 | ￥259,800 | ￥285,780(税込) |
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| 15231387 | SE4510B-640W-E3NY-LS-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 640 | Y(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥324,500 | ￥259,800 | ￥285,780(税込) |
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| 15231405 | SE4510B-640W-E3NC-NN-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 640 | C(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥297,000 | ￥239,800 | ￥263,780(税込) |
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| 15231423 | SE4510B-640W-E3NC-NS-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 640 | C(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥298,500 | ￥239,800 | ￥263,780(税込) |
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| 15231448 | SE4510B-640W-E3NC-LN-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 640 | C(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥323,000 | ￥259,800 | ￥285,780(税込) |
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| 15231466 | SE4510B-640W-E3NC-LS-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 640 | C(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥324,500 | ￥259,800 | ￥285,780(税込) |
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| 15231484 | SE4510B-640W-E3NP-NN-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 640 | P(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥297,000 | ￥239,800 | ￥263,780(税込) |
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| 15231502 | SE4510B-640W-E3NP-NS-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 640 | P(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥298,500 | ￥239,800 | ￥263,780(税込) |
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| 15231527 | SE4510B-640W-E3NP-LN-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 640 | P(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥323,000 | ￥259,800 | ￥285,780(税込) |
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| 15231545 | SE4510B-640W-E3NP-LS-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 640 | P(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥324,500 | ￥259,800 | ￥285,780(税込) |
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| 15247164 | SE4510B-740W-E3NN-NN-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 740 | なし | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥301,000 | ￥239,800 | ￥263,780(税込) |
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| 15247182 | SE4510B-740W-E3NN-NS-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 740 | なし | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥302,500 | ￥239,800 | ￥263,780(税込) |
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| 15247207 | SE4510B-740W-E3NN-LN-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 740 | なし | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥330,000 | ￥259,800 | ￥285,780(税込) |
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| 15247225 | SE4510B-740W-E3NN-LS-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 740 | なし | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥331,500 | ￥259,800 | ￥285,780(税込) |
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| 15247243 | SE4510B-740W-E3NM-NN-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 740 | M(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥314,000 | ￥249,800 | ￥274,780(税込) |
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| 15247268 | SE4510B-740W-E3NM-NS-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 740 | M(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥315,500 | ￥249,800 | ￥274,780(税込) |
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| 15247286 | SE4510B-740W-E3NM-LN-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 740 | M(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥343,000 | ￥269,800 | ￥296,780(税込) |
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| 15247304 | SE4510B-740W-E3NM-LS-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 740 | M(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥344,500 | ￥269,800 | ￥296,780(税込) |
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| 15247322 | SE4510B-740W-E3NY-NN-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 740 | Y(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥314,000 | ￥249,800 | ￥274,780(税込) |
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| 15247347 | SE4510B-740W-E3NY-NS-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 740 | Y(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥315,500 | ￥249,800 | ￥274,780(税込) |
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| 15247365 | SE4510B-740W-E3NY-LN-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 740 | Y(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥343,000 | ￥269,800 | ￥296,780(税込) |
| | |
| 15247383 | SE4510B-740W-E3NY-LS-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 740 | Y(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥344,500 | ￥269,800 | ￥296,780(税込) |
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| 15247408 | SE4510B-740W-E3NC-NN-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 740 | C(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥314,000 | ￥249,800 | ￥274,780(税込) |
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| 15247426 | SE4510B-740W-E3NC-NS-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 740 | C(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥315,500 | ￥249,800 | ￥274,780(税込) |
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| 15247444 | SE4510B-740W-E3NC-LN-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 740 | C(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥343,000 | ￥269,800 | ￥296,780(税込) |
| | |
| 15247462 | SE4510B-740W-E3NC-LS-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 740 | C(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥344,500 | ￥269,800 | ￥296,780(税込) |
| | |
| 15247487 | SE4510B-740W-E3NP-NN-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 740 | P(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥314,000 | ￥249,800 | ￥274,780(税込) |
| | |
| 15247505 | SE4510B-740W-E3NP-NS-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 740 | P(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥315,500 | ￥249,800 | ￥274,780(税込) |
| | |
| 15247523 | SE4510B-740W-E3NP-LN-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 740 | P(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥343,000 | ￥269,800 | ￥296,780(税込) |
| | |
| 15247548 | SE4510B-740W-E3NP-LS-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 740 | P(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥344,500 | ￥269,800 | ￥296,780(税込) |
| | |
| 15263167 | SE4510B-840W-E3NN-NN-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 840 | なし | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥352,000 | ￥279,800 | ￥307,780(税込) |
| | |
| 15263185 | SE4510B-840W-E3NN-NS-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 840 | なし | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥353,500 | ￥279,800 | ￥307,780(税込) |
| | |
| 15263203 | SE4510B-840W-E3NN-LN-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 840 | なし | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥383,000 | ￥299,800 | ￥329,780(税込) |
| | |
| 15263228 | SE4510B-840W-E3NN-LS-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 840 | なし | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥384,500 | ￥299,800 | ￥329,780(税込) |
| | |
| 15263246 | SE4510B-840W-E3NM-NN-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 840 | M(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥365,000 | ￥289,800 | ￥318,780(税込) |
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| 15263264 | SE4510B-840W-E3NM-NS-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 840 | M(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥366,500 | ￥289,800 | ￥318,780(税込) |
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| 15263282 | SE4510B-840W-E3NM-LN-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 840 | M(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥396,000 | ￥309,800 | ￥340,780(税込) |
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| 15263307 | SE4510B-840W-E3NM-LS-PS | E3 | 防錆黒色被膜処理 | SE45 | 840 | M(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥397,500 | ￥319,800 | ￥351,780(税込) |
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| 15263325 | SE4510B-840W-E3NY-NN-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 840 | Y(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 標準グリース | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥365,000 | ￥289,800 | ￥318,780(税込) |
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| 15263343 | SE4510B-840W-E3NY-NS-PS | E3 | 標準仕様(黒染め) | SE45 | 840 | Y(フォトマイクロセンサ) | B(ロングブロック2個付) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | W(繰返し位置決め精度：±10μm) | 10 | なし | | ￥366,500 | ￥289,800 | ￥318,780(税込) |
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