ガスプラズマによる培養表面処理で、細胞の均一な増殖が可能です。ベントキャップ0.2μmの疎水性メンブレンフィルタ付なので、コンタミネーションを最小限に抑えた上で、均一なガス交換が可能です。また、疎水性のメンブレンなので、中の培地が染み出す心配もありません。プラグシールキャップキャップを閉じている時は密閉性を、半開放時はガス交換が確実な「開放系培養」の状態を保つことができます。半開放時のキャップ回転位置が分かり易いよう、フタにマークが付いています。