軸受の全面に形成したふっ素高分子被膜によって潤滑します。
用途クリーンルーム、真空機器などに
半導体製造装置、液晶製造装置、真空機器、スパッタ装置、真空モータ
仕様クリーン、真空
材質(外輪・内輪・玉)マルテンサイト系ステンレス鋼、(保持器・シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
係数12.3
許容回転速度(min-1)1000
RoHS指令(10物質対応)対応
ステンレス鋼の玉にイオンプレーティングした銀によって潤滑します。
超高温真空対応。
用途半導体製造装置、液晶製造装置、真空蒸製造装置、医療機器、真空モータ
仕様真空、高温
材質(外輪・内輪・玉)マルテンサイト系ステンレス鋼、(保持器・シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
許容回転速度(min-1)1000
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