「ファインケミカル」の検索結果
親水性ナイロン66メンブラン
FlexN(TM)マルチゾーンメンブランテクノロジー
より多くの粒子の捕捉が可能
Advanced Pleat Technology(TM)(APT(TM))構造
大きなろ過面積
高流量・低圧力損失・ロングライフ
低コスト
低溶出カートリッジ
用途精密部品洗浄、マイクロ・マシン、燃料電池、超純水、フォトレジスト、ファインケミカル、TFT 液晶、有機EL、メッキ、FPD
材質ナイロン66
最高使用温度(℃)80
フォトレジストやその他ファインケミカルのろ過に適用
親水性ナイロン66メンブラン
Advanced Pleat Technology(TM)(APT(TM))構造
大きなろ過面積
優れたゲル状異物除去能力
アウトガスとマイクロバブルの発生を低減
高流量・低圧力損失・ロングライフ
低コスト
低溶出カートリッジ
用途各種フォトレジスト、アルコール、アルカリ溶液、現像液、エッチング液、剥離液、ソルベント
最高使用温度(℃)50
材質(ろ材)ナイロン66
材質(構成パーツ)HDPE
微量金属(Na、Fe、Cr、Al等)、微量コロイド等のろ過に有効
ppbレベルまで除去
SHグレードは、特にNa、Feの除去効率に優れた製品
ゼータ電位による吸着作用と機械的ろ過作用とのダブルキャッチシステム
優れた粒子捕捉能カ
微粒子、コロイド粒子等の異物を効率良く捕捉
テスト用47mm、90mmディスクからカートリッジにスケールアップが可能
用途ファインケミカル：樹脂・有機溶剤、フォトレジスト：フォトレジスト原料樹脂・CD/HD用樹脂・液晶用顔料樹脂、オーバーコート材 等、洗浄液：IPA 等
材質セルロース、酸洗浄済みケイソウ土、レジン
最高使用温度(℃)82
関連キーワード
