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YAGレーザ(1064nm)の光を減光するための丸型フィルターです。吸収タイプなので、反射による迷光が小さく、しかも、減光によって透過光の波長特性が大きく変わることはありません。
高精度に研磨された平面基板にアルミを蒸着したミラーです。あらゆる入射角度で高い反射率を得ることができます。
可視光を減光するための丸型のフィルターです。吸収タイプなので、反射による迷光が小さく、しかも、減光によって透過光の波長特性が大きく変わることはありません。透過率が細かく分かれているので、色々な光量に減光できます。さらに、複数枚のフィルターを組合わせることで、微妙な光量調整が可能です。吸収型固定式NDフィルターを光源の近くに置くと、急激な温度変化でフィルターが割れることがあります。フィルターに熱強化処理を行なうと温度が上がってもフィルターが割れにくくなります。フィルターを熱強化した場合寸法が大きくなり、公差の範囲を超える可能性があります。※高出力レーザには使用できません。※使用すると破損する恐れがあります。※高出力レーザには、反射型NDフィルター(FND)をご使用ください。※透過率特性を優先させているため、フィルターの厚さを変えることで透過率の性能が満たすように調整されています。※このため、フィルターごとに厚さが異なってきます(6mm以下)。※厚さを一定にする必要がある場合は、枠付きフィルター(MAN)をご使用ください。※透過率波長特性は製造ロットによって異なってきます。※特に適応波長の外側の波長特性は製造ロットによって大きく異なる場合があります。※もし、指定波長範囲より広い範囲で使用される場合は、反射型フィルター(FND)をご使用ください。※NDフィルターには反射防止コートが施されていないので、4%程度の反射があります。
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。
高出力レーザや広い波長域の光を減光させる時に使用するNDフィルターです。透過しない光はガラスに吸収されないので、ガラスが高温になって破損する心配がありません。
基板の表・裏面に僅かなウェッジをつけることで、表・裏面による反射ビームを分離させることができます。ビームサンプラーや干渉計の参照原器として使用できます。
片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5~4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。
片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5~4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。
芯出し機構を小型化した、芯出しレンズホルダーです。芯出し調整機構がコンパクトなので低い光軸で使用することができます。
レーザ共振器のミラーの基板として使用する凹面基板です。凹面と裏面の平面が高い面精度で加工されています。外径サイズや焦点距離で細分化された豊富なバリエーションの中から、仕様に合わせご選定いただけます。裏面も研磨されているので、励起レーザの入力やパワー検出用のサンプル光の取り出しが可能です。曲率半径の精度や面精度が高いので凸レンズのニュートン原器としても使用できます。反射望遠鏡やランプ光源の反射鏡の凹面ミラー基板(TCA)もご用意しています。※凹面の外周稜線には面取りが施されており、コバ厚(te)はバラツキを生じることがあります。このため、裏面側を基準面としてご使用ください。
各種の全反射ミラーの蒸着膜コートが可能な凹面基板です。予めアルミをコーティングした凹面ミラーもご用意しています。反射望遠鏡の主鏡やランプ光源のコリメート光学系の反射鏡として使用できます。外形サイズや曲率半径で細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平凹レンズ(SLB-N)に比べ、高い面精度で加工されています。レーザの共振器ミラーに使用する面精度が高いレーザ凹面ミラー基板(LCBS)もご用意しています。※裏面が砂面なので、透過では使用できません。※透過で使用する場合は凹レンズ(SLB-N)をご利用ください。※コールドミラーや部分反射ミラーに用いる場合は、裏面が鏡面の凹面基板を使用する必要があります。※高エネルギーのパルスレーザビームを入射させると、焦点付近でスパークが発生し、波面が乱れてしまいます。※凹面の外周稜線には面取りが施されており、コバ厚(te)はバラツキを生じることがあります。このため、裏面側を基準面としてご使用ください。
温度変化による形状の変化が極めて小さい材料を高精度に研磨した基板です。干渉計の原器やニュートン原器に使用することができます。
レーザ共振器のミラーの基板として使用する凹面基板です。凹面と裏面の平面が高い面精度で加工されています。外径サイズや焦点距離で細分化された豊富なバリエーションの中から、仕様に合わせご選定いただけます。裏面も研磨されているので、励起レーザの入力やパワー検出用のサンプル光の取り出しが可能です。曲率半径の精度や面精度が高いので凸レンズのニュートン原器としても使用できます。反射望遠鏡やランプ光源の反射鏡の凹面ミラー基板(TCA)もご用意しています。※凹面の外周稜線には面取りが施されており、コバ厚(te)はバラツキを生じることがあります。このため、裏面側を基準面としてご使用ください。
各種の全反射ミラーの蒸着膜コートが可能な凹面基板です。予めアルミをコーティングした凹面ミラーもご用意しています。反射望遠鏡の主鏡やランプ光源のコリメート光学系の反射鏡として使用できます。外形サイズや曲率半径で細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平凹レンズ(SLB-N)に比べ、高い面精度で加工されています。レーザの共振器ミラーに使用する面精度が高いレーザ凹面ミラー基板(LCBS)もご用意しています。※裏面が砂面なので、透過では使用できません。※透過で使用する場合は凹レンズ(SLB-N)をご利用ください。※コールドミラーや部分反射ミラーに用いる場合は、裏面が鏡面の凹面基板を使用する必要があります。※高エネルギーのパルスレーザビームを入射させると、焦点付近でスパークが発生し、波面が乱れてしまいます。※凹面の外周稜線には面取りが施されており、コバ厚(te)はバラツキを生じることがあります。このため、裏面側を基準面としてご使用ください。
可視域全域で波長に依存しない位相差を与えることができます。白色光源の偏光方位を可変する光学系や偏光を使った分光計測などに使用できます。
薄いレンズから、アクロマートなどの厚いレンズまで固定することができます。
ホルダーにフレネルロム波長板を組込んだ製品です。λ/2板(FRH-102、FRH-152)は素子の光軸とホルダーの回転軸が調整されています。
YAGレーザなどのパルスレーザ用に設計された偏光ビームスプリッターです。プリズムの貼り合わせ面に接着剤を使わず、オプティカルコンタクトで接合しているので、ハイパワーレーザにも耐えられます。
偏光分離可能な波長帯域を広げた偏光ビームスプリッターです。多波長のレーザを使った実験や連続スペクトルの光源を使った実験に使用することができます。
可視光または赤外光の広い帯域で使用できる無偏光タイプのハーフミラーです。多波長レーザや可視光の偏光実験に使用できます。
鏡で2回反射させることで、鏡対称の反射像を物体と同じ正立の像に変換します。カメラがデジタル化する前は、像が鏡対称にならないように、ペンタプリズムを使って物体からの光線を直角に曲げていました。レーザ墨出し器の直角基準としても使われています。
偏光板の偏光方位や波長板の結晶軸を調整するために使われるホルダーです。光軸中心に360度滑らかに回転できる機構により、精密な偏光実験に使用することができます。
各種レーザの波長に合わせた、消光比の高い偏光ビームスプリッターです。単色のレーザを使った、各種の偏光実験に使用することができます。
可視から赤外の広い波長域で使用できるキューブタイプのハーフミラーです。簡易的な実験や分光計測などに使用できます。
本体にガイドを施し、精密研削ネジを使用した低価格な自動ステージです。
仕様【<ステッピングモータ駆動小型自動ステージ ステージサイズ□40/□60mm>共通仕様】モータタイプ:5相ステッピングモータ 0.35A/相(オリエンタルモータ(株))、モータ品番:PK513PB-C9(□20mm)、モータステップ角度:0.72°、センサ電源電圧:DC5~24V±10%、センサ消費電力:TSDM40-15X:40mA以下(1センサ当たり20mA以下)、TSDM60-20X:30mA以下(1センサ当たり15mA以下)、センサ制御出力:NPNオープンコレクタ出力 DC30V以下50mA以下、センサ出力論理:遮光時:出力トランジスタOFF(非導通)、適応ドライバ:SG-5MA、SG-55MA、SG-514MSC、適応コントローラ:PAT-001、GSC-01、SHOT-102、SHOT-702、GIP-101、SHOT-302GS、SHOT-304GS、HIT-M・HIT-S、【個別仕様】移動量:15mm、テーブル面サイズ:40×40mm、送りネジ:精密研削ネジΦ5mm、リード0.5mm、移動ガイド:ボールガイド、ステージ材質:鉄、表面処理:スーパーブラッククロム、質量:0.35kg、分解能(Full):1μm/パルス、分解能(Half):0.5μm/パルス、MAXスピード:5mm/sec、位置決め精度:20μm、繰返し位置決め精度:10μm、耐荷重:29.4N(3.0kgf)、モーメント剛性/ピッチング:0.4″/N・cm、モーメント剛性/ヨーイング:0.4″/N・cm、モーメント剛性/ローリング:0.4″/N・cm、ロストモーション:10μm、バックラッシ:10μm、平行度:50μm、走り平行度:10μm、ピッチング:20″、ヨーイング:20″、センサ品番:マイクロフォトセンサ:GP1S092HCPI(シャープ株式会社)、リミットセンサ:有(NORMAL CLOSE)、原点センサ:無、近接原点センサ:無
アズワン品番61-6985-49
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