12ページ目: 画像処理アクセサリ

各種の全反射ミラーの蒸着膜コートが可能な凹面基板です。予めアルミをコーティングした凹面ミラーもご用意しています。反射望遠鏡の主鏡やランプ光源のコリメート光学系の反射鏡として使用できます。外形サイズや曲率半径で細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平凹レンズ(SLB-N)に比べ、高い面精度で加工されています。レーザの共振器ミラーに使用する面精度が高いレーザ凹面ミラー基板(LCBS)もご用意しています。※裏面が砂面なので、透過では使用できません。※透過で使用する場合は凹レンズ(SLB-N)をご利用ください。※コールドミラーや部分反射ミラーに用いる場合は、裏面が鏡面の凹面基板を使用する必要があります。※高エネルギーのパルスレーザビームを入射させると、焦点付近でスパークが発生し、波面が乱れてしまいます。※凹面の外周稜線には面取りが施されており、コバ厚(te)はバラツキを生じることがあります。このため、裏面側を基準面としてご使用ください。

基板の表・裏面に僅かなウェッジをつけることで、表・裏面による反射ビームを分離させることができます。ビームサンプラーや干渉計の参照原器として使用できます。

平行平面基板に特殊な研磨を行うことで、表面粗さを0.2nm(Ra)以下にしました。基板の散乱の影響が気になる高出力レーザ用ミラーやX線用のミラーの基板として使用できます。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5～4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。

片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5～4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。

片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5～4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。

密閉容器の中や隔壁の反対側に光を通す場合に使用する高品質の窓です。YAGレーザの波長に合わせ透過率を高めているので、レーザのウィンドとして使用できます。レーザの光路中に垂直にこの窓板を挿入しても、透過ビームの角度は変わらない平行平面タイプと、表面と裏面との干渉の影響が小さいウェッジタイプがあります。

半導体で使われるシリコンの単結晶は1.2～6μmの赤外波長では吸収がなく、赤外光用の光学素子として使えます。

石英ガラスは波長1.4μm、2.2μm、2.7μmで水(OH基)による吸収があります。無水合成石英はガラス分子に水の分子を結合させない特殊な製造方法によって、赤外域での水の吸収を無くしました。可視から3μmの赤外域の窓として使用できます。

鏡で2回反射させることで、鏡対称の反射像を物体と同じ正立の像に変換します。カメラがデジタル化する前は、像が鏡対称にならないように、ペンタプリズムを使って物体からの光線を直角に曲げていました。レーザ墨出し器の直角基準としても使われています。

ダブプリズムを通して像を観察すると、像の上下が反転して見えます。さらにダブプリズムを回転させると、像も2倍の回転量で回って見えます。画像の回転調整が必要な用途で使われます。

細くコリメートされた白色光をプリズムに入射させると、波長に対する屈折率の違いによって波長成分に分かれて出射します。分散プリズムは分光器やフェムト秒レーザの発振器の分散補償などに使用されます。

コーナーキューブと同じように、入ってきた光を全て反射させて、元来た方向に帰すことができる光学素子です。3つのミラーを精密に90度に組合わせることで、ガラスの屈折率の波長分散やガラスの吸収の影響がありません。

入ってきた光を全て反射させて、元来た方向に帰すことができるプリズムです。レーザを使った測長機のリフレクター(反射鏡)として使用されています。

2面の底面を挟む直角稜線を研磨加工で鋭く仕上げたプリズムです。直角稜を面取りしていないので、斜面側から覗くと直角稜の線が非常に細くなり、継ぎ目のない自然な反射像を観察することができます。

小さなレーザビームを大きなコリメートビームに拡大する光学系です。ディオプター補正機能によりコリメートの微調整が可能です。波面収差を考慮したレンズ設計により干渉計やレーザ加工などの高精度な光学系に使用できます。

簡易的な実験でレーザビームを拡大できるビームエキスパンダーです。コリメートビームが入射したときに、最良なコリメート状態が得られるようにコリメート調整されているので、レーザビームを直接入射させるだけで簡単に拡大されたコリメート光が得られます。

赤外域においての1×10^4 以下の高い消光比が得られるガラス製のポラライザーです。通信用LDを使った偏光実験に使われます。

入射ビームを直交する2つの直線偏光のビームに分離するためのプリズムです。位相差顕微鏡の光学系に使用されてます。

最も全長が短い偏光プリズムです。透過損失が小さく、5×10^-5 以下の高い消光比が得られます。可視域から赤外で使用する方解石タイプと、紫外域でも使用できるα-BBO結晶タイプをご用意しています。

高出力レーザや高エネルギーのパルスレーザ用にレーザ耐力を高めた偏光素子です。透過損失が小さく、5×10^-5 以下の高い消光比が得られます。

透過損失が小さく、5×10^-5 以下の高い消光比が得られる特殊な偏光素子です。高精度な偏光実験を行う場合に使用します。

偏光分離可能な波長帯域を広げた偏光ビームスプリッターです。多波長のレーザを使った実験や連続スペクトルの光源を使った実験に使用することができます。

YAGレーザなどのパルスレーザ用に設計された偏光ビームスプリッターです。プリズムの貼り合わせ面に接着剤を使わず、オプティカルコンタクトで接合しているので、ハイパワーレーザにも耐えられます。

可視域全域で波長に依存しない位相差を与えることができます。白色光源の偏光方位を可変する光学系や偏光を使った分光計測などに使用できます。

簡易的な実験や観察系などに用いられる波長板です。雲母の結晶を薄くスライスし、ガラス板でサンドイッチしています。

分光器の回折格子などで、レーザビームの偏光特性が測定結果に影響するような場合、偏光解消板で回折格子に入射するレーザビームの偏光状態を撹乱させます。

高出力YAGレーザ用の波長板です。基本波(1064nm)から4倍波(266nm)までラインナップがあります。

位相差の波長特性が異なる2枚の結晶を組合せることで、広い波長範囲で位相差の変化が小さい、ゼロオーダーの波長板を実現しました。エアギャップタイプのため、高出力レーザにも使用することが可能です。

1nmから40nmまでのスペクトル幅(半値幅)で、指定の波長だけを透過させることができるフィルターです。輝線ランプから特定のスペクトルだけを取り出す場合や、多波長発振しているレーザから特定の波長だけを取り出す場合に使用します。

コールドミラーは可視光だけを反射させ、赤外光を透過させます。太陽光などの光線を可視光と赤外線(熱線)に分離するときに使用できます。