科学研究・開発用品 ：「内面研磨」の検索結果

KDシリーズの基本性能や素材及び洗浄度はそのままで部品の見直しや加工方法を見直した新デザインのバルブです。洗浄工程及び検査工程は従来モデルと同等ですので信頼性及び耐久性性能は変わりません。最高レベルの製造環境と内面研磨処理により、半導体用高純度ガスに対応しパーティクル性能を極限まで追求しました。

「KCD」シリーズは、「KD」シリーズをベースとして更なるコンパクト化を図ったダイレクトダイヤフラムバルブです。基本性能は最高機種の「KD」シリーズを全て受け継いだハイスペックバルブです。KDシリーズの内容積1.2cm³(1/4"CVCオスOpen時)に対し、「KCD」シリーズは0.97cm³まで小さくする事に成功しました。品種を1/4"サイズに限定しKDシリーズと同じデザインを持ちながら外観サイズを約20%縮小、重量も軽くなりました。耐久性能を落すことなく、自動弁400万回(実績値)、手動弁10万回(実績値)を実現しております。最高レベルの製造環境と内面研磨処理により、多くの半導体用高純度ガスに対応しパーティクル性能を極限まで追及しました。

「KCD」シリーズは、「KD」シリーズをベースとして更なるコンパクト化を図ったダイレクトダイヤフラムバルブです。基本性能は最高機種の「KD」シリーズを全て受け継いだハイスペックバルブです。KDシリーズの内容積1.2cm³(1/4"CVCオスOpen時)に対し、「KCD」シリーズは0.97cm³まで小さくする事に成功しました。品種を1/4"サイズに限定しKDシリーズと同じデザインを持ちながら外観サイズを約20%縮小、重量も軽くなりました。耐久性能を落すことなく、自動弁400万回(実績値)、手動弁10万回(実績値)を実現しております。最高レベルの製造環境と内面研磨処理により、多くの半導体用高純度ガスに対応しパーティクル性能を極限まで追及しました。

「KD」シリーズは、コンパクトデザインのダイレクトダイヤフラムバルブとして、高いCv値を実現し、半導体用高純度ガスに対応できる品質を備え、高耐久・高耐蝕性能を両立させた信頼性の高いバルブです。ボディ縦穴寸法を最小限にし、内容積を1.2cm³(1/4"CVCオスOpen時)まで小さくする事により優れたガス置換特性を実現しています。独自の接ガス部シール構造により高いシール性能と高耐久化、脱ガス性能、耐蝕性能を極限まで追求しました。厳選されたダイヤフラム素材による高耐蝕性能と、独自の成型方法による加工により極限まで個体差をなくし、高い耐久性能を実現しました。最高レベルの製造環境と内面研磨処理により、半導体用高純度ガスに対応しパーティクル性能を極限まで追及しました。