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科学研究・開発用品 :「研磨液」の検索結果

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3M  フィルターハウジング 1ZMSタイプ 3M(スリーエム)3M フィルターハウジング 1ZMSタイプ3M(スリーエム)
639,800税込703,780
1台
73日以内出荷
SUS316L相当、サニタリー仕様、内面バフ#400研磨後電解研磨加工、残液の少ない構造
接続口径IDFヘルール1.5S材質(本体)316LSST(SUS316L相当)材質(ガスケット)シリコーンゴムアズワン品番61-8508-90設計圧力(MPa)0.7
Betapure(TM) 硬質デプスフィルターカートリッジ AUシリーズ 3M(スリーエム)Betapure(TM) 硬質デプスフィルターカートリッジ AUシリーズ3M(スリーエム)
199,800税込219,780
1箱(50本)ほか
65日以内出荷から115日以内出荷
分級ろ過に優れた効果を発揮 複合繊維を熱溶着 非常に少ないメディアミグレーション(ろ材の脱落) 中芯にポリプロピレン、外側にポリエチレンを使用した繊維の両材質間の溶融温度の差により、均一な空隙を持つ理想的な配列のろ材を形成 グレードごとにベータ値1000のろ過精度を確保 低圧力損失で、優れたろ過精度と高い粒子捕捉能力 接着剤が使用されていない、安全性の高いフィルター 機械的強度に優れた、堅牢なメディア構造 高差圧下でも安定したろ過性能を維持 特殊なフィルターメディアを挿入した独自の構造
用途一般化学、石油化学、メッキ、樹脂、磁性塗料、塗料、インキ、写真乳剤、純水、CMP、研磨剤、各種溶剤、液糖、仕込み水、各種飲料、洗浄用水、製造用水、洗浄水、各種薬品 積層セラミックス電子部品製造各工程 CMPスラリー(ヒュームドシリカ、コロイダルシリカ、セリア等の分散液)の製造 工程および半導体製造工程 セラミックや金属粒子などの分散液のろ過 PPKやポリネット、ライフアシュアEMCとの組合せでのろ過 ベータピュアでの多段ろ過最高使用温度(℃)80接続形状(端末)ダブルオープンエンド材質(ろ材)ポリオレフィン複合繊維

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