メカニカル部品 ：「傾斜」の検索結果

光学ベンチなどに設置されたキネマティックミラーホルダー(MHG)を使って、ビームを垂直に跳ね上げる(または落とす)場合に使用します。

テーブル面上の試料を、任意の角度に傾き調整やあおり調整をするための傾斜ステージです。

アリ溝にウォームギアを採用した姿勢調整(角度調整や補正)に使用するゴニオステージです。

V溝ガイドとネジ送り方式を採用したコストパファーマンスに優れたゴニオステージです。ネジ送り機構は接触面積が大きく耐久性に優れています。

アリ溝にウォームギアを採用した姿勢調整(角度調整や補正)に使用するゴニオステージです。

アリ溝にウォームギアを採用した姿勢調整(角度調整や補正)に使用するゴニオステージです。高真空グリース(YVAC2)を使用しているため真空対応としても最適です。GOHSシリーズは、クリーンルームや真空用途に適したステージです。アウトガスを嫌う気密性の高い狭いスペース内での使用にも最適です。

主要素材にアルミを使用していますが、移動ガイドにボールガイドを採用しているため、高耐荷重にも優れています。

アリ溝にウォームギアを採用した姿勢調整(角度調整や補正)に使用するゴニオステージです。

□65mmでM6仕様、姿勢調整や試料の傾斜回転などに使用するアリ溝・ウォームギア式のα軸ゴニオステージです。

アリ溝にウォームギアを採用した姿勢調整(角度調整や補正)に使用するゴニオステージです。

アリ溝にウォームギアを採用した姿勢調整(角度調整や補正)に使用するゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

アリ溝にウォームギアを採用した姿勢調整(角度調整や補正)に使用するゴニオステージです。ステージサイズ□15mm(GOH-15A10)の超小型ゴニオステージは、同社のオリジナル製品です。GOH-15A10を操作する際には、六角穴を利用して六角レンチでご使用ください。※GOH-15A10には、目盛及びクランプ機構は付属されていません。

テーブル面上の試料を、任意の角度に傾き調整やあおり調整をするための傾斜・回転ステージです。小型であり薄型であるため、制約のあるスペースや光学系を小さく使用したい場合に有効です。

アリ溝にウォームギアを採用した姿勢調整(角度調整や補正)に最適です。

主要素材にアルミを使用していますが、移動ガイドにボールガイドを採用しているため、高耐荷重にも優れています。

V溝ガイドとネジ送り方式を採用したコストパファーマンスに優れたゴニオステージです。ネジ送り機構は接触面積が大きく耐久性に優れています。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

□65mmでM6仕様、姿勢調整や試料の傾斜回転などに使用するアリ溝・ウォームギア式のαβ軸ゴニオステージです。

アリ溝にウォームギアを採用した姿勢調整(角度調整や補正)に使用するゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。滑らかな移動が得られるため、頻繁に操作する用途に最適です。クランプ時の安定性を向上させるためディスククランプを採用しています。ガイド一体型構造により、回転中位置変位量Φ0.007mm以下の高性能を実現しました。アタッチメントピン(GOHT-AP)は、単品でもご用意しています。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

焼入れされたステンレス製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した高精度なゴニオステージです。

カメラや撮像素子を固定するためのホルダーです。カメラの傾斜や回転を自由に調整でき、任意の位置に固定することができます。

He-Neレーザを固定するホルダーです。2対の調整可能な3点支持機構により、レーザの傾斜角度を可変することができます。

Φ100mm以上のミラー用のジンバル式のミラーホルダーです。大型ミラーで問題になるミラーの傾斜調整による光路長ズレを小さく抑えることができます。

□40ステージにM16ネジのポール(PO)をたてることができるスペーサーです。傾斜ステージ(AIS-40B)やサンプルホルダー(SHA-40)、偏光子ホルダー(MPH-B)を□40ステージに取り付ける場合にも使えます。

X軸ブロックステージ(TASB-15*)やX軸ネジ送りステージ(TAS-15*)の超小型ステージを□25ステージに取り付けるためのスペーサーです。超小型ゴニオステージ(GOH-15)や傾斜ステージ(AIS-25B)、サンプルホルダー(SHA-25)、偏光子ホルダー(MPH-B)も取り付けられます。

対物レンズを5軸レンズホルダー(ALHN-5RO)やΦ50mmの各種ホルダーに取り付けるためのアダプタです。M20.32取り付けネジの各種の対物レンズを固定することができます。5軸レンズホルダー(ALHN-5RO)を使用することで、芯出し、フォーカス以外に対物レンズの傾斜も調整することが可能です。十字動ホルダー(TAT)を使って対物レンズの芯出し調整を行うための対物レンズアダプタ(TAT-18OA)もご用意しています。※対物レンズがアダプタから取り外せない場合は、アダプタ側面の穴にピンを差し込んでアダプタをしっかり掴んで取り外してください。※同社製以外の対物レンズをご使用になる場合、規格が同じネジでもネジの回りが硬くなる場合があります。

片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5～4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。

片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5～4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。

片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5～4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。

指定の波長より短波長をカットし、長波長を透過させるロングパスフィルターです。観測の邪魔になる波長域(例えば紫外域)をカットする場合などに使います。

レンズの中心をレーザビームに合わせるためのレンズの芯出し機構とフォーカス調整機構が備わったレンズホルダーです。口径の大きなレーザビームのコリメート調整や精密な位置決めが必要なレーザ集光に使うことができます。

レンズの中心をレーザビームに合わせるためのレンズの芯出し機構とフォーカス調整機構が備わったレンズホルダーです。口径の大きなレーザビームのコリメート調整や精密な位置決めが必要なレーザ集光に使うことができます。