| 41897443 | RP-3R+GX-3R TYPEA(CH4) | Ex ia llC T4 Ga | メタン・酸素・硫化水素・一酸化炭素 | 0~100%LEL(HC、CH4)、0~25.0vol%(O2)、0~500ppm(CO)、0~30.0ppm(H2S) | 拡散式(ポンプユニット装着により吸引式にも対応) | ニューセラミック式、定電位電解式 | ~40~+60 | RP-3R:IP67相当、GX-3R:IP66/68(2m,1h)相当 | | ¥167,000 | ¥159,800 | ¥175,780(税込) |
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出荷予定:2026年10月1日 |
| 41897459 | RP-3R+GX-3R TYPEA(HC) | Ex ia llC T4 Ga | イソブタン・酸素・硫化水素・一酸化炭素 | 0~100%LEL(HC、CH4)、0~25.0vol%(O2)、0~500ppm(CO)、0~30.0ppm(H2S) | 拡散式(ポンプユニット装着により吸引式にも対応) | ニューセラミック式、定電位電解式 | ~40~+60 | RP-3R:IP67相当、GX-3R:IP66/68(2m,1h)相当 | | ¥167,000 | ¥159,800 | ¥175,780(税込) |
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出荷予定:2026年10月下旬 |
| 41897468 | RP-3R+GX-3R TYPEB(CH4) | Ex ia llC T4 Ga | メタン・酸素・硫化水素 | 0~100%LEL(HC、CH4)、0~25.0vol%(O2)、0~500ppm(CO)、0~30.0ppm(H2S) | 拡散式(ポンプユニット装着により吸引式にも対応) | ニューセラミック式、定電位電解式 | ~40~+60 | RP-3R:IP67相当、GX-3R:IP66/68(2m,1h)相当 | | ¥155,000 | ¥149,800 | ¥164,780(税込) |
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| 41897477 | RP-3R+GX-3R TYPEB(HC) | Ex ia llC T4 Ga | イソブタン・酸素・硫化水素 | 0~100%LEL(HC、CH4)、0~25.0vol%(O2)、0~500ppm(CO)、0~30.0ppm(H2S) | 拡散式(ポンプユニット装着により吸引式にも対応) | ニューセラミック式、定電位電解式 | -20~+50 | RP-3R:IP67相当、GX-3R:IP66/68(2m,1h)相当 | | ¥155,000 | ¥149,800 | ¥164,780(税込) |
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| 41897486 | RP-3R+GX-3R TYPEC(CH4) | Ex ia llC T4 Ga | メタン・酸素・一酸化炭素 | 0~100%LEL(HC、CH4)、0~25.0vol%(O2)、0~500ppm(CO)、0~30.0ppm(H2S) | 拡散式(ポンプユニット装着により吸引式にも対応) | ニューセラミック式、定電位電解式 | ~40~+60 | RP-3R:IP67相当、GX-3R:IP66/68(2m,1h)相当 | | ¥155,000 | ¥149,800 | ¥164,780(税込) |
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| 41897495 | RP-3R+GX-3R TYPEC(HC) | Ex ia llC T4 Ga | イソブタン・酸素・一酸化炭素 | 0~100%LEL(HC、CH4)、0~25.0vol%(O2)、0~500ppm(CO)、0~30.0ppm(H2S) | 拡散式(ポンプユニット装着により吸引式にも対応) | ニューセラミック式、定電位電解式 | ~40~+60 | RP-3R:IP67相当、GX-3R:IP66/68(2m,1h)相当 | | ¥155,000 | ¥149,800 | ¥164,780(税込) |
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| 41897504 | RP-3R+GX-3R TYPED(CH4) | Ex ia llC T4 Ga | メタン・酸素 | 0~100%LEL(HC、CH4)、0~25.0vol%(O2)、0~500ppm(CO)、0~30.0ppm(H2S) | 拡散式(ポンプユニット装着により吸引式にも対応) | ニューセラミック式、定電位電解式 | ~40~+60 | RP-3R:IP67相当、GX-3R:IP66/68(2m,1h)相当 | | ¥148,000 | ¥139,800 | ¥153,780(税込) |
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| 41897513 | RP-3R+GX-3R TYPED(HC) | Ex ia llC T4 Ga | イソブタン・酸素 | 0~100%LEL(HC、CH4)、0~25.0vol%(O2)、0~500ppm(CO)、0~30.0ppm(H2S) | 拡散式(ポンプユニット装着により吸引式にも対応) | ニューセラミック式、定電位電解式 | -20~+50 | RP-3R:IP67相当、GX-3R:IP66/68(2m,1h)相当 | | ¥148,000 | ¥139,800 | ¥153,780(税込) |
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| 41897529 | RP-3R+GX-3R TYPEE | Ex ia llC T4 Ga | 酸素・硫化水素 | 0~100%LEL(HC、CH4)、0~25.0vol%(O2)、0~500ppm(CO)、0~30.0ppm(H2S) | 拡散式(ポンプユニット装着により吸引式にも対応) | ニューセラミック式、定電位電解式 | ~40~+60 | RP-3R:IP67相当、GX-3R:IP66/68(2m,1h)相当 | | ¥148,000 | ¥139,800 | ¥153,780(税込) |
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| 41897538 | RP-3R+GX-3R TYPEF | Ex ia llC T4 Ga | 酸素・一酸化炭素 | 0~100%LEL(HC、CH4)、0~25.0vol%(O2)、0~500ppm(CO)、0~30.0ppm(H2S) | 拡散式(ポンプユニット装着により吸引式にも対応) | ニューセラミック式、定電位電解式 | ~40~+60 | RP-3R:IP67相当、GX-3R:IP66/68(2m,1h)相当 | | ¥148,000 | ¥139,800 | ¥153,780(税込) |
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