「方位」の検索結果

指針とリングにルミノーバを使用 強磁力で敏感に反応し、方位誤差のないマップコンパスです。指針とリングに長時間発光するルミノーバを使用しているため、暗闇でも方位の確認ができます。

明るさ3.300ルーメン。 2つの形状で明るく照らす!開いた状態で前方、閉じた状態で全方位。 端まで明るく照らす折り畳み式の照明です。 ソケットに挿すだけで、すぐ使用出来る簡易照明、羽を広げて前方向、閉じた状態だと全方位で照らす事が出来ます。 本製品は、E26電球ソケットに取り付けて使用してください。 現場用ワークライト、室内、倉庫、ガレージ等の照明に。 PSEマーク取得済。

高純度材料を用いたガラスを少量からご提供、方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。多様な形状加工と表面処理が可能です(例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。

高純度材料を用いたガラスを少量からご提供、方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。多様な形状加工と表面処理が可能です(例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。

高純度材料を用いたガラスを少量からご提供、方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。多様な形状加工と表面処理が可能です(例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。

高純度材料を用いたガラスを少量からご提供、方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。多様な形状加工と表面処理が可能です(例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。

座面はモールドウレタン採用で、しっかりとした上質な座り心地です。昇降リングレバーは全方位から操作が可能です。座面はアルコールや次亜塩素酸ナトリウムでの清拭が可能です。

ソケットに挿すだけですぐに使用できる簡易証明です。羽を広げて前方向、閉じた状態だと全方位で照らすことができます。E26の口金に対応で現場用ワークライト、室内、倉庫、ガレージの証明等幅広くご使用いただけます。PSEマーク取得済。

つかみやすい背もたれは樹脂製で、腰をやさしくホールドします。座面はモールドウレタン採用で、しっかりした上質な座り心地です。昇降リングレバーは全方位から操作ができます。座面と背もたれもアルコールや次亜塩素酸ナトリウムでの清拭ができます。腰にフィットする背もたれは、ゴミがたまりにくい構造で、また引き寄せやすいように取手が付いています。ホコリがたまりにくく、お手入れ簡単

汎用的な成膜用基板として使用されています。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供

汎用的な成膜用基板として使用されています。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

超電導用基板などとして使用されています。

各種成膜用基板として使用されています。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

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超電導用や燃料電池用基板などとして使用されています。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

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磁性薄膜用基板などに使用されています。

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