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同社のホルダーおよびステージ専用の工具をセットしたものです。同社製品に使用しているビス用のレンチ、締付けロッド、レンズおよびミラーホルダー用のネジリングスパナなどがセットになっています。

各種の全反射ミラーの蒸着膜コートが可能な凹面基板です。予めアルミをコーティングした凹面ミラーもご用意しています。反射望遠鏡の主鏡やランプ光源のコリメート光学系の反射鏡として使用できます。外形サイズや曲率半径で細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平凹レンズ(SLB-N)に比べ、高い面精度で加工されています。レーザの共振器ミラーに使用する面精度が高いレーザ凹面ミラー基板(LCBS)もご用意しています。※裏面が砂面なので、透過では使用できません。※透過で使用する場合は凹レンズ(SLB-N)をご利用ください。※コールドミラーや部分反射ミラーに用いる場合は、裏面が鏡面の凹面基板を使用する必要があります。※高エネルギーのパルスレーザビームを入射させると、焦点付近でスパークが発生し、波面が乱れてしまいます。※凹面の外周稜線には面取りが施されており、コバ厚(te)はバラツキを生じることがあります。このため、裏面側を基準面としてご使用ください。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

等間隔で光学濃度が変化するNDフィルターを使って、透過光量を段階的に切り替えることができます。濃度計や測色計のキャリブレーションになどに使用できます。11段階の等間隔な光学濃度が1枚のガラスに並んでいるので、目視の比較で未知の光学濃度サンプルの大まかな光学濃度の値を知ることができます。クロムコーティングなので、レーザビームの光量調整にも使用できます。クロムコーティングなので可視光域で波長が変化しても光学濃度が変わりません。※透過率が均一な範囲は4.6×25mmです。※Φ3mm以下のビームでご使用ください。※移動量に対し透過率は対数で変化します。※比例関係ではありません。※高エネルギーのパルスレーザには使用できません。

ガイドにベアリングを採用し、送り機構にはウォームギアを使用したステッピングモータ駆動の回転ステージです。

リニアスケールで使用する製品は、半導体、フラットパネルディスプレイ(FPD)、プリント配線板などの電子デバイス製造装置、電子部品実装機、工作機械、搬送機械などが主となっており、多くに分野で欠かせない工程をになう装置に使用されています。

自動ステージの単軸を購入後、お客様ご自身でXY軸に組合せする場合に使用する専用プレートです。

使用頻度が比較的多く、粗い動きとストロークが必要な場合に有効です。 装置組込み等に適します。