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膜厚計L-500用新開発プローブ。渦電流式プローブ(非磁性金属素地用)。アプリケーションメモリを50本まで保存。L字型
測定方式渦電流式
測定精度50μm未満±1.0μm/50μm以上±2%
対応機種膜厚計 L-500
測定対象非磁性金属上の絶縁被膜
測定範囲(μm)0 ～ 1200または47.0mils
1本
￥169,800
税込￥186,780
8日以内出荷
膜厚計L-500用新開発プローブ 。渦電流式プローブ(非磁性金属素地用) 。アプリケーションメモリを50本まで保存
測定方式渦電流式
測定精度50未満±1.0μm/50以上±2%
対応機種膜厚計 L-500
測定対象非磁性金属上の絶縁被膜
測定範囲(μm)0 ～ 1200または47.0mils
1本
￥139,800
税込￥153,780
6日以内出荷
膜厚計L-500用新開発プローブ。電磁式プローブ(磁性金属素地用)。アプリケーションメモリを50本まで保存。L字型
測定方式電磁誘導式
測定精度15μm未満±0.3μm/15μm以上1000μm未満±2%/1000μm以上±3%
対応機種膜厚計 L-500
測定対象磁性金属上の非磁性被膜
測定範囲(μm)0 ～ 2500または99.0mils
1本
￥139,800
税込￥153,780
8日以内出荷
膜厚計L-500用新開発プローブ 。電磁式プローブ(磁性金属素地用)
測定方式電磁誘導式
測定精度15μm未満±0.3μm/15μm以上1、000μm未満±2%/1、000μm以上±3%
対応機種膜厚計 L-500
測定対象磁性金属上の非磁性被膜
測定範囲(μm)0 ～ 2、500または99.0mils
1本
￥109,800
税込￥120,780
6日以内出荷
膜厚計L-500用新開発プローブ。電磁式プローブ(磁性金属素地用)。アプリケーションメモリを50本まで保存。パイプ内面測定用
測定方式電磁誘導式
測定精度15μm未満±0.3μm/15μm以上1000μm未満±2%/1000μm以上±3%
対応機種膜厚計 L-500
測定対象磁性金属上の非磁性被膜
測定範囲(μm)0 ～ 2500または99.0mils
1本
￥239,800
税込￥263,780
8日以内出荷
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