大気圧露点が-10℃のドライエアーが得られます。
小型コンプレッサー(少流量)で使用可能です。
組み合わせは3タイプ。
クリーンルーム内のブローシステム、エアシステムに適したワンタッチ管継手。
完全禁油処理。(ゴム類にフッ素コーティング)
クリーンルーム内で部品洗浄、組立、2重梱包。
真空使用可能。(-100kPa)
食品衛生法適合。
部品材質は器具および容器包装規格試験に適合。
清浄度(ISOクラス)クラス3
使用流体空気、チッ素ガス、水、脱イオン水(純水)
最高使用圧力(MPa)(20℃) 1
使用真空圧力(kPa)-100(10Torr)
保証耐圧力(MPa)(20℃) 3
周囲温度および使用流体温度(℃)-20~80
ねじJIS B0203(管用テーパねじ)
適合チューブ材質PFA、ポリオレフィン、ソフトポリオレフィン、ポリウレタン
クリーンルーム内のブローシステム、エアシステムに適したワンタッチ管継手。
完全禁油処理。(ゴム類にフッ素コーティング)
クリーンルーム内で部品洗浄、組立、2重梱包。
真空使用可能。(-100kPa)
食品衛生法適合。
部品材質は器具および容器包装規格試験に適合。
清浄度(ISOクラス)クラス3
使用流体空気、チッ素ガス、水、脱イオン水(純水)
最高使用圧力(MPa)(20℃) 1
使用真空圧力(kPa)-100(10Torr)
保証耐圧力(MPa)(20℃) 3
周囲温度および使用流体温度(℃)-20~80
ねじJIS B0203(管用テーパねじ)
適合チューブ材質PFA、ポリオレフィン、ソフトポリオレフィン、ポリウレタン
クリーンルーム内のブローシステム、エアシステムに適したワンタッチ管継手。
完全禁油処理。(ゴム類にフッ素コーティング)
クリーンルーム内で部品洗浄、組立、2重梱包。
真空使用可能。(-100kPa)
食品衛生法適合。
部品材質は器具および容器包装規格試験に適合。
清浄度(ISOクラス)クラス3
使用流体空気、チッ素ガス、水、脱イオン水(純水)
最高使用圧力(MPa)(20℃) 1
使用真空圧力(kPa)-100(10Torr)
保証耐圧力(MPa)(20℃) 3
周囲温度および使用流体温度(℃)-20~80
ねじJIS B0203(管用テーパねじ)
適合チューブ材質PFA、ポリオレフィン、ソフトポリオレフィン、ポリウレタン
クリーンルーム内のブローシステム、エアシステムに適したワンタッチ管継手。
完全禁油処理。(ゴム類にフッ素コーティング)
クリーンルーム内で部品洗浄、組立、2重梱包。
真空使用可能。(-100kPa)
食品衛生法適合。
部品材質は器具および容器包装規格試験に適合。
清浄度(ISOクラス)クラス3
使用流体空気、チッ素ガス、水、脱イオン水(純水)
最高使用圧力(MPa)(20℃) 1
使用真空圧力(kPa)-100(10Torr)
保証耐圧力(MPa)(20℃) 3
周囲温度および使用流体温度(℃)-20~80
ねじJIS B0203(管用テーパねじ)
適合チューブ材質PFA、ポリオレフィン、ソフトポリオレフィン、ポリウレタン
クリーンルーム内のブローシステム、エアシステムに適したワンタッチ管継手。
完全禁油処理。(ゴム類にフッ素コーティング)
クリーンルーム内で部品洗浄、組立、2重梱包。
真空使用可能。(-100kPa)
食品衛生法適合。
部品材質は器具および容器包装規格試験に適合。
清浄度(ISOクラス)クラス3
使用流体空気、チッ素ガス、水、脱イオン水(純水)
最高使用圧力(MPa)(20℃) 1
使用真空圧力(kPa)-100(10Torr)
保証耐圧力(MPa)(20℃) 3
周囲温度および使用流体温度(℃)-20~80
ねじJIS B0203(管用テーパねじ)
適合チューブ材質PFA、ポリオレフィン、ソフトポリオレフィン、ポリウレタン
エアー配管から流出する異物や水滴をシャットアウトし、クリーンなエアー環境をご提供します。
メインフィルターシステムのサポート用としてもお使いください。優れた異物捕捉能力を発揮。
駆動機器のロングライフを実現。低圧力損失で大流量を確保。コンパクトな設計で省スペースに対応。
ろ過精度(μm)0.01
材質ケース:PC、中空糸膜:PP、ポッティング部:ポリウレタン、アダプタ:変形PPE
最高使用圧力(MPa)0.8
使用環境温度(℃)5~50
適合流体エア
膜面積(cm2)80
最大許容差圧(MPa)0.25
高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2、メタン、クリーンドライエア CDA) ら水分を低 pb ベルまで除去します。 乾燥ガスを必要とするあらゆるアプリケーションに推奨します。
高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2、クリーンドライエア CDA) ら炭化水素(ブタンより重い)を数ppbレベルまで除去します。炭化水素を含まないガスを必要とするほとんどのアプリケーションに推奨します。
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