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商品豆知識
セパレータに含有されている耐熱性の高い二硫化タングステンによって潤滑します。
耐熱350℃と耐荷重性を両立
用途半導体製造装置、液晶製造装置、真空製造装置、PDP製造装置
仕様真空、高温
材質(外輪・内輪・玉)マルテンサイト系ステンレス鋼、(セパレータ)二硫化タングステン自己潤滑複合材、(シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
エコ商品
潤滑性に富んだふっ素系高分子を用いた固体潤滑軸受です。保持器材料は、発じんが少ないふっ素樹脂を使用しています。
クリーン、真空対応の基本仕様。
用途半導体製造装置、液晶製造装置、搬送装置、検査装置
内径d(Φmm)30
外径D(Φmm)55
幅B(mm)13
仕様クリーン、真空
材質(外輪・内輪・玉)マルテンサイト系ステンレス鋼、(保持器)ふっ素樹脂、(シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
寸法r(mm)1
係数14.7
許容回転速度(min-1)330
RoHS指令(10物質対応)対応
許容ラジアル荷重(N)95
1個
￥11,980
税込￥13,178
5日以内出荷
ステンレス鋼の玉にイオンプレーティングした銀によって潤滑します。
超高温真空対応。
用途半導体製造装置、液晶製造装置、真空蒸製造装置、医療機器、真空モータ
仕様真空、高温
材質(外輪・内輪・玉)マルテンサイト系ステンレス鋼、(保持器・シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
セパレータに含有されている耐熱性の高い二硫化タングステンによって潤滑します。
耐熱350℃と耐荷重性を両立
用途半導体製造装置、液晶製造装置、真空製造装置、PDP製造装置
仕様真空、高温
材質(外輪・内輪・玉)マルテンサイト系ステンレス鋼、(セパレータ)二硫化タングステン自己潤滑複合材、(シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
RoHS指令(10物質対応)対応
軸受の転がり面にゲル状ふっ素高分子被膜を形成して潤滑します。
クリーンプロ寿命10倍。
用途半導体製造装置、露光装置、搬送装置、真空モータ、真空機器
仕様クリーン、真空
材質(外輪・内輪・玉)マルテンサイト系ステンレス鋼、(保持器・シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
寸法r(mm)0.3
RoHS指令(10物質対応)対応
耐食性に優れたステンレス鋼を用いた組合せセラミック軸受です。ふっ素高分子によって潤滑します。
水中などでも用いることができます。
用途塩水、薬液などの環境に
半導体製造装置、薬品製造装置、食品機械、洗浄装置
仕様クリーン、真空、絶縁、耐食
材質(外輪・内輪)析出硬化系ステンレス鋼、(玉)セラミック/窒化けい素、(保持器)ふっ素樹脂、(シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
寸法r(mm)1
RoHS指令(10物質対応)対応
ステンレス鋼の玉にイオンプレーティングした銀によって潤滑します。
超高温真空対応。
用途半導体製造装置、液晶製造装置、真空蒸製造装置、医療機器、真空モータ
仕様真空、高温
材質(外輪・内輪・玉)マルテンサイト系ステンレス鋼、(保持器・シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
係数12.4
許容回転速度(min-1)1000
耐食性に優れたステンレス鋼を用いた組合せセラミック軸受です。ふっ素高分子によって潤滑します。
水中などでも用いることができます。
用途塩水、薬液などの環境に
半導体製造装置、薬品製造装置、食品機械、洗浄装置
仕様クリーン、真空、絶縁、耐食
材質(外輪・内輪)析出硬化系ステンレス鋼、(玉)セラミック/窒化けい素、(保持器)ふっ素樹脂、(シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
RoHS指令(10物質対応)対応
ステンレス鋼の玉にイオンプレーティングした銀によって潤滑します。
超高温真空対応。
用途半導体製造装置、液晶製造装置、真空蒸製造装置、医療機器、真空モータ
仕様真空、高温
材質(外輪・内輪・玉)マルテンサイト系ステンレス鋼、(保持器・シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
許容回転速度(min-1)1000
軸受の全面に形成したふっ素高分子被膜によって潤滑します。
用途クリーンルーム、真空機器などに
半導体製造装置、液晶製造装置、真空機器、スパッタ装置、真空モータ
仕様クリーン、真空
材質(外輪・内輪・玉)マルテンサイト系ステンレス鋼、(保持器・シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
耐食性に優れたステンレス鋼を用いた組合せセラミック軸受です。ふっ素高分子によって潤滑します。
水中などでも用いることができます。
用途塩水、薬液などの環境に
半導体製造装置、薬品製造装置、食品機械、洗浄装置
内径d(Φmm)8
外径D(Φmm)22
幅B(mm)7
仕様クリーン、真空、絶縁、耐食
材質(外輪・内輪)析出硬化系ステンレス鋼、(玉)セラミック/窒化けい素、(保持器)ふっ素樹脂、(シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
寸法r(mm)0.3
係数12.4
許容回転速度(min-1)1000
RoHS指令(10物質対応)対応
許容ラジアル荷重(N)25
1個
￥9,698
税込￥10,668
5日以内出荷
軸受の全面に形成したふっ素高分子被膜によって潤滑します。
用途クリーンルーム、真空機器などに
半導体製造装置、液晶製造装置、真空機器、スパッタ装置、真空モータ
仕様クリーン、真空
材質(外輪・内輪・玉)マルテンサイト系ステンレス鋼、(保持器・シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
係数12.3
許容回転速度(min-1)1000
RoHS指令(10物質対応)対応
軸受の全面に形成したふっ素高分子被膜によって潤滑します。
用途クリーンルーム、真空機器などに
半導体製造装置、液晶製造装置、真空機器、スパッタ装置、真空モータ
仕様クリーン、真空
材質(外輪・内輪・玉)マルテンサイト系ステンレス鋼、(保持器・シールド)オーステナイト系ステンレス鋼
RoHS指令(10物質対応)対応
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