精密ラボジャッキ LJAシグマ光機12日以内出荷から17日以内出荷
メーカー独自の調整技術により極めて高い平行度を実現したZ軸精密ステージです。
薄型X軸スチールステージ TSDTシリーズシグマ光機当日出荷から12日以内出荷
メーカーの手動ステージの中で最薄10mmを実現した高剛性に優れた直動ステージです。従来品(TSD)と比較し、ステージ厚さ40%・質量355を削減しました。
種類xステージ送り方式送りねじ移動ガイドボールガイド
平行平面基板 OPB-3シリーズシグマ光機当日出荷から42日以内出荷
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。
平行平面基板 OPB-1シリーズシグマ光機当日出荷から23日以内出荷
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。
自動回転ステージシグマ光機5日以内出荷から17日以内出荷
ガイドにベアリングを採用し、送り機構にはウォームギアを使用したステッピングモータ駆動の回転ステージです。
用途計測・検査・評価装置用の位置決めに適した自動ステージです。仕様(MIXスピード)30°sec、リミットセンサ:有(NORMAL CLOSE)、接原点センサ:無、同心度:30μm材質(ステージ)アルミ・アルミニウム青銅種類回転ステージ分解能0.005°/パルス(Full)・0.0025°/パルス(Half)RoHS指令(10物質対応)対応関連資料(1.11MB)送り方式ウォームギヤ面振れ(mm)0.02移動量(°)反時計周りCCW方向は∞・時計周りCW方向は0度付近(-2.5)で停止ロストモーション(°)0.05バックラッシ(°)0.08原点センサ無
XYZ軸フラットブロックステージ TASBシグマ光機11日以内出荷から17日以内出荷
突起部を省き小スペース型で動作頻度が少なく微細な調整用途に適した、テーブル面が水平な調整用XYZ軸ステージです。
仕様テーブル面サイズ:15×15mm、主要材質:シンチュウ、表面処理:黒つや消し、ネジピッチ:0.4mm、耐荷重:4.9N(0.5kgf)、移動精度/真直度:30μm、許容モーメント荷重/ピッチング:-、許容モーメント荷重/ローリング:-、許容モーメント荷重/ヨーイング:-、モーメント剛性/ピッチング:-、モーメント剛性/ローリング:-、平行度:200μm、質量:0.04kg、種類XYZ軸移動ガイドアリ溝方式、ストローク(X距離)(mm)±2ストローク(Y距離)(mm)±2ストローク(Z距離)(mm)+2・-0
θ軸透過用薄型粗微動ステージ KSPBシリーズシグマ光機12日以内出荷から20日以内出荷
粗動360°の回転と微動(マイクロメーターヘッド又はファインピッチスクリューからの選択)が可能なすり合わせ式の透過用θ軸(回転)粗微動ステージです。
粗動360°の回転と微動(マイクロメータヘッド又はファインピッチスクリューからの選択)が可能なすり合わせ式の透過用θ軸(回転)粗微動ステージです。粗動はステージ上面を直接回転させ、微動は粗動部分をクランプし、マイクロメータヘッド又はファインピッチスクリュー(±3~5°)で行います。ステージ本体にシンチュウを採用し、鉄製のクロスローラを使用することで高精度・高剛性を実現します。ステージ中央に貫通穴があいているタイプは、透過用としてご利用いただけます。品番末尾にFPがついている製品は、ファインピッチスクリューを使用しています。一般的なマイクロメータヘッドではありませんので、ご注意ください。ネジピッチ0.25mmで操作する際には、六角レンチまたは別売のツマミ付六角レンチ(KCL)が必要となります。
プレート型偏光ビームスプリッター PBSシリーズシグマ光機12日以内出荷
ハイパワーのレーザや大きなビーム径の光に用いることができるプレートタイプの偏光ビームスプリッターです。高出力レーザ用の偏光アッテネータや光量分岐比を可変する光学系などに使用されます。
超広帯域誘多膜平面ミラー TFMSシリーズシグマ光機12日以内出荷から52日以内出荷
可視域帯だけではなく、紫外または赤外の帯域を広くカバーした、高反射率のミラーです。不可視光を含む分光実験や、黒体輻射スペクトルの伝播に使用できます。
平行平面基板 OPBシリーズシグマ光機13日以内出荷から63日以内出荷
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。
紫外光用反射型固定式NDフィルター FNDUシリーズシグマ光機13日以内出荷から53日以内出荷
紫外の高出力レーザや紫外に近い波長域の光を減光させる時に使用するNDフィルターです。透過しない光はガラスに吸収されないので、ガラスが高温になって破損する心配がありません。
BSHL用ベースプレートシグマ光機12日以内出荷
BSHLミラーホルダーを定盤やブレッドボードに固定する場合に使用するベースプレートです。0度入射と45度入射の配置にBSHLを設置することができます。
平行平面基板 OPSQ-3シリーズシグマ光機12日以内出荷から63日以内出荷
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。
可視光用反射型固定式NDフィルター FNDシリーズシグマ光機12日以内出荷から42日以内出荷
高出力レーザや広い波長域の光を減光させる時に使用するNDフィルターです。透過しない光はガラスに吸収されないので、ガラスが高温になって破損する心配がありません。
ハーモニック・セパレーター YHSシリーズシグマ光機12日以内出荷から23日以内出荷
YAGレーザ(1064nm)を高調波変換したレーザ光(355nm、532nm)を波長で分離または合波する場合に使用します。反射率波長が違う3種類をご用意しています。誘電体多層膜を使用しているので、膜に吸収がなく、エネルギー密度の高いレーザ光にも使用できます。プレートタイプのため、ビーム径の大きなレーザにも使用できます。
平行平面基板 OPSQ-2シリーズシグマ光機12日以内出荷から23日以内出荷
ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。
『メカニカル部品/機構部品』には他にこんなカテゴリがあります
耐水インバータエクセン税込¥538,780¥489,800
金具椿本チエイン税込¥35,178¥31,980