真空機器 ：「ピエゾ」の検索結果

機器組込用部品として、液体をコントロールします。

FestoOVELシリーズT型真空ジェネレータは、公称ノズルサイズは0.95mmです。2桁のピエゾ抵抗型圧力センサ測定方式に対応しています。動作圧力範囲は2bar→7barです。グリッド寸法：15mmサイレンサ設計を開く真空イジェクト特性が高い

Festo T 字型真空ジェネレータのノズルサイズは 0.7 mm で、プラグコネクタが付いています。2 桁のピエゾ抵抗型圧力センサ測定方式に対応しています。動作圧力範囲は 1 bar → 8 bar です。グリッド寸法： 14 mm サイレンサ設計を開く 高真空

FestoOVELシリーズT型真空ジェネレータは、公称ノズルサイズは0.95mmです。2桁のピエゾ抵抗型圧力センサ測定方式に対応しています。動作圧力範囲は2bar→7barです。グリッド寸法：15mmサイレンサ設計を開く真空イジェクト特性が高い

Festo T 字型真空ジェネレータのノズルサイズは 0.7 mm で、プラグコネクタが付いています。2 桁のピエゾ抵抗型圧力センサ測定方式に対応しています。動作圧力範囲は 2 → 8 bar です。グリッド寸法： 14 mm サイレンサ設計を開く 高真空

。Festo T 字型真空ジェネレータのノズルサイズは 0.7 mm で、プッシュインコネクタが付いています。2 桁のピエゾ抵抗型圧力センサ測定方式に対応しています。動作圧力範囲は 1 bar → 8 bar です。グリッド寸法： 10 mm サイレンサ設計を開く 高真空

Festo ストレート設計の真空ジェネレータのノズルサイズは 0.45 mm で、プラグコネクタが付いています。2 桁のピエゾ抵抗型圧力センサ測定方式に対応しています。動作圧力範囲は 1 bar → 8 bar です。グリッド寸法： 13 mm サイレンサ設計を開く 高吸引流量

Festo T 字型真空ジェネレータのノズルサイズは 0.45 mm で、プラグコネクタが付いています。2 桁のピエゾ抵抗型圧力センサ測定方式に対応しています。動作圧力範囲は 1 bar → 8 bar です。グリッド寸法： 14 mm サイレンサ設計を開く 高吸引流量

FestoT字型真空ジェネレータのノズルサイズは0.45mmで、プッシュインコネクタが付いています。2桁のピエゾ抵抗型圧力センサ測定方式に対応しています。動作圧力範囲は1bar→8barです。グリッド寸法：10mmサイレンサ設計を開く真空イジェクト特性が高い

。Festo T 字型真空ジェネレータのノズルサイズは 0.7 mm で、プッシュインコネクタが付いています。2 桁のピエゾ抵抗型圧力センサ測定方式に対応しています。動作圧力範囲は 1 bar → 8 bar です。グリッド寸法： 16 mm サイレンサ設計を開く 高吸引流量

Festo ストレート設計の真空ジェネレータのノズルサイズは 0.7 mm で、プラグコネクタが付いています。2 桁のピエゾ抵抗型圧力センサ測定方式に対応しています。動作圧力範囲は 1 bar → 8 bar です。グリッド寸法： 13 mm サイレンサ設計を開く 高真空

Festo T 字型真空ジェネレータのノズルサイズは 0.7 mm で、プッシュインコネクタが付いています。2 桁のピエゾ抵抗型圧力センサ測定方式に対応しています。動作圧力範囲は 1 bar → 8 bar です。グリッド寸法： 14 mm サイレンサ設計を開く 高真空

FestoT字型真空ジェネレータのノズルサイズは0.45mmで、プッシュインコネクタが付いています。2桁のピエゾ抵抗型圧力センサ測定方式に対応しています。動作圧力範囲は1bar→8barです。グリッド寸法：10mmサイレンサ設計を開く真空イジェクト特性が高い

Festo ストレート設計の真空ジェネレータのノズルサイズは 0.7 mm で、プラグコネクタとプッシュイン式スリーブを備えています。2 桁のピエゾ抵抗型圧力センサ測定方式に対応しています。動作圧力範囲は 1 bar → 8 bar です。グリッド寸法： 13 mm サイレンサ設計を開く 幅： 14 mm 高真空

シリコンおよびハロゲンを含まず、一般に選択されることが多い極低温真空グリースとして広く認識されています。極低温グリースは低温でもひび割れのない性能特性を示し、-273℃の極低温から+30℃までの頻繁な循環に耐えるように特別に配合されています。隣接する表面の微細孔を満たす能力があるため、熱接触を改善します。クリープやキャリーオーバーなど、シリコンベースのグリースに関わる汚染の問題に悩まされることはありません。20℃で6x10-10Torrの蒸気圧を示します。強力な「ゲッタリング」作用により、金属およびガラス表面の潜在的に有害なグリースおよび化学不純物を吸収します。炭化水素溶媒に可溶なので、容易に洗浄および除去が可能です。用途：真空システム内のガラス製または金属製プラグの潤滑、真空システム内のポリマジョイント部の密封、漏れ検出、真空カプセル化されたリレー内の金属接点の保護、研磨されたガラス/金属面の密封、真空システムおよびレーザーシステムの光学面(曇りが発生しない)。

科学的用途と工業的用途の両方で、高温での使用に適したシリコンを含まない高真空グリースです。-10～+240℃の幅広い温度範囲で良好に機能し、+10～+110℃の温度で最適な一貫性を維持します。優れた熱伝達特性を備えています。作動部位から熱を逃がし、加熱の危険と、熱に弱い部品が損傷する危険を減少させます。良好な「静止摩擦力」または付着力を示します。強力な「ゲッタリング」作用により、金属およびガラス表面の潜在的に有害なグリースおよび化学不純物を吸収します。炭化水素溶媒に可溶なので、容易に洗浄および除去が可能です。20℃で1.7x10-9Torrの蒸気圧を示します。用途：真空システム内のガラス製または金属製プラグの潤滑、真空システム内のポリマジョイント部の密封、漏れ検出、真空カプセル化されたリレー内の金属接点の保護、研磨されたガラス/金属面の密封、真空システムおよびレーザーシステムの光学面(曇りが発生しない)。

シリコンを含まない真空グリースおよび潤滑剤です。焼き付き防止特性があるため、超高真空において効果的な保護剤および潤滑剤となります。PTFEを含むAP100は非常に高いレベルの潤滑性を示します。20℃で7x10-11Torrの非常に低い蒸気圧を示します。周囲温度(通常は10～30℃)での使用が推奨されます。クリープやキャリーオーバーなど、シリコンベースのグリースに関わる汚染の問題に悩まされることはありません。お湯と水性ガラス製品洗剤または炭化水素溶剤を使用して、容易に洗浄および除去が可能です。用途：真空シス