6ページ目: ステージ/画像処理

上ステージとベースの間にあるボールが傾斜の支点となります。カメラ、センサなどの位置決め用途に広く利用いただけます。

粗動、微動送りが出来る回転ステージです。標準型、対称型があり左右対称が構成できます。バーニアが左右両方にあり、どちらからでも位置の読み取りが可能です。テーブル面をつかんで粗動360度回転可能です。微動は粗動クランプの上、マイクロメータヘッドで行います。粗動と微動両方のクランプをすることで、任意の位置で固定できます。カメラ、センサ、ワークなどの精密位置決め用途に広く利用いただけます。

HG-VCR方式とアルミ合金を組み合わせ剛性、軽量を両立した昇降型のZ軸ステージです。カメラ、センサ、ワークなどの精密位置決め用途に広く利用いただけます。

移動ガイドにアリ溝(D-T方式)を使用した移動ユニットです。送り方式にラックピニオンを使用しており、大きな移動量が得られます。カメラ、センサなどの位置決め用途に広く利用いただけます。任意の位置で保持力の高いレバー式クランプによる固定が可能です。

無限領域をカットし、ディストーションを限りなく0%にした事によりメガピクセルカメラの性能を最大限に発揮。 外観はCCTVレンズと変わらないがFA用にマクロ設計を施し近接域での使用環境に考慮。

1型最大12MP 3.1μm ※限定した波長域による数値となります。可視～近赤外(450nm～2000nm)の広帯域に対応。フォーカスシフト補正超低分散(XD)ガラスを使用することで色収差を大幅に低減。低ディストーション設計フローティング機構を採用し、あらゆる被写体距離でも最高に近い性能を発揮。

2.5μm対応、高精細・高画素レンズゴーストやフレアを効果的に低減し、近赤外領域での透過率を高めるために、 ワイドバンドマルチコートを採用新たにマクロシリーズ75mm、100mmをラインナップ最大0.75 倍のマクロが可能。接写リングと組み合わせると高解像度での1倍撮影が可能。

従来からのキネマティックミラーホルダー(MHG)の設計を見直すことで、さらなる低価格を実現しました。

ミラーホルダーやレンズホルダーに付属されている部品です。

NDフィルターやカラーフィルターなど、光学実験で頻繁に脱着が必要な光学素子用のホルダーです。板厚が異なるフィルターを容易に交換することができます。

BSHLミラーホルダーを定盤やブレッドボードに固定する場合に使用するベースプレートです。0度入射と45度入射の配置にBSHLを設置することができます。

キネマティックミラーホルダー(MHG)のミラー反射面の中心とホルダーの取付位置のオフセットを修正するためのプレートです。

マイクロメーターヘッドを取り外す場合や締付けを行う場合に必要な専用工具です。

手動ステージ、ホルダーなどに使用している粗粗微動マイクロメーターヘッドです。

テーブル面上の試料を、任意の角度に傾き調整やあおり調整をするための傾斜ステージです。

アリ溝にウォームギアを採用した姿勢調整(角度調整や補正)に使用するゴニオステージです。

クロスローラガイドのXY軸ステージと垂直タイプのZ軸ステージを組合せたステージです。

ボールガイドのXY軸ステージとフラットZ軸ステージを組合せたステージです。

ボールガイドのX軸ステージとZ軸ステージを組合せたステージです。

精密ラボジャッキ(LJ/LJA)専用の上面プレートです。上面プレートを変更することで、より大きな試料を搭載することができます。

突起部を省き小スペース型で動作頻度が少なく微細な調整用途に適した、テーブル面が水平な調整用Z軸ステージです。

アルミ製のステージ本体にクロスローラーガイドを使用した、軽量で高精度な直動ステージです。

焼入れされたスチール製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した非常に耐久性に優れた直動ステージです。

焼入れされたスチール製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した非常に耐久性に優れた直動ステージです。

焼入れされたスチール製のステージ本体と移動テーブルに直接ガイド加工を施した非常に耐久性に優れた直動ステージです。

メーカーの手動ステージの中で最薄10mmを実現した高剛性に優れた直動ステージです。従来品(TSD)と比較し、ステージ厚さ40%・質量355を削減しました。

ラックピニオン方式を使用しロッド付ホルダーの高さ調整をスムーズに行えます。

防振台・光学実験台などの上に直接M6ボルトで固定して、小型光学系の各ユニットを低光軸で直接的に配置・構築するための製品です。小型アルミガイド用キャリアと併用して使用します。長さの変更などへの対応も可能です。

ステンレス製の支柱(ロッド)です。このロッドを使用すれば、新たにロッドを購入することなくホルダー等をさまざまな光軸高さに設定することが可能です。

ステンレス製の支柱で片端にM16P1のオネジが付いたポールです。クロスクランプや回転式クロスクランプと接続し、使用します。

防振台・光学実験台上に直接ネジ止めし、垂直面部をスライドさせて高さ方向の粗動調整を行うユニットです。Zブラケットをユニットに直角に取り付けることで、水平面方向の調整も可能になります。

ホルダーやステージなどの光軸の高さ調整を行うための□40mmスペーサーです。予め設定していた光軸に対し、ステージを組合せた時の高さ(厚み)が不足している場合等に使用します。

光学防振台、光学実験台などの(着磁性のある材質の平面)上に単独で配置・固定するための製品です。レバーのON・OFFの切換えで容易に脱着できます。

小型アルミ光学ベンチに取り付け、スライドさせて任意の位置で固定します。

断面はX形状で放射状4方向にフィンが出ています。専用のキャリアを使用し直線的な光学系を構築できます。

断面はパイプ形状で放射状4方向にフィンが出ています。専用のキャリアを使用し直線的な光学系を構築できます。

簡易実験や照明光学系など、レーザ用の低スクラッチ研磨を必要としない用途に最適です。その他の面精度や反射率はレーザ用のアルミミラー(TFA)と同じです。

各種の全反射ミラーの蒸着膜コートが可能な凹面基板です。予めアルミをコーティングした凹面ミラーもご用意しています。反射望遠鏡の主鏡やランプ光源のコリメート光学系の反射鏡として使用できます。外形サイズや曲率半径で細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平凹レンズ(SLB-N)に比べ、高い面精度で加工されています。レーザの共振器ミラーに使用する面精度が高いレーザ凹面ミラー基板(LCBS)もご用意しています。※裏面が砂面なので、透過では使用できません。※透過で使用する場合は凹レンズ(SLB-N)をご利用ください。※コールドミラーや部分反射ミラーに用いる場合は、裏面が鏡面の凹面基板を使用する必要があります。※高エネルギーのパルスレーザビームを入射させると、焦点付近でスパークが発生し、波面が乱れてしまいます。※凹面の外周稜線には面取りが施されており、コバ厚(te)はバラツキを生じることがあります。このため、裏面側を基準面としてご使用ください。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。