「フォトレジスト」の検索結果

使いやすい、1液タイプの紫外線硬化型インク(緑色)です。

ぬるま湯に溶かすだけですぐ使えます。開封しなければ劣化しないのでストック用にも便利です。

エアー噴流で、簡単・効率的にエッチング。 少量のエッチング液で効率的にエッチングできるように設計されています。 エアー噴流式で自動的に液をかくはんするため、短い時間でシャープに仕上がります。 両面基板の同時エッチングはもちろん、数枚まとめてもOKです。

実装済み基板の補修用絶縁コーティング剤です。 絶縁性に優れ、ソルダーレジストについた傷や剥がれなどの絶縁対策に効果的です。 ガスバリア性に優れ、湿気や腐食性ガスから基板を守ります。 有機溶剤中毒予防規則に非該当です。

水や酸に強いアルコールベースの特殊レジストペンです。 耐酸性に優れていますので、カット基板に直接パターンを描いてエッチングできます。 遮光性に優れていますので、アートワーク用フィルムにもくなじみ回の作成・修正が手早くできます。

クイックポジ感光基板がリニューアル。従来の「NZシーリーズ」と比べ性能は同等、露光時間が約半分に。短時間で仕上げる事が可能になりました。プリント基板と手軽に作成する事ができ、試作や小ロット作製に便利です。最小パターン幅/間隔は0.2mmです。

インバーター方式、デジタルタイマー内蔵の標準機。 1秒から99分59秒まで、1秒単位で設定できるメモリー付きデジタルタイマーを装備しています。 紫外線照射面に特殊ディフューザー(特許出願中)を装備し、150×200mmまでのポジ感光基板にパターンをムラなく露光できます。 照射効率の高いインバーター方式を採用しています。 付属のクランプでパターンフィルムとポジ感光基板を密着させ、露光できます。

自作基板のエッチングが簡単にできます。

ガスバリア性に優れ、湿気や腐食性ガスから基板を守ります。絶縁性に優れ、プリント基板の狭いパターンなどの絶縁信頼性を向上します。有機溶剤中毒予防規則に非該当です。

少量生産ラインに適用。ハウジングなしでそのままラインにつなげることができます。 接液部は純水洗浄処理済みですので、超純水の立ち上がりを短時間で達成します。 メルトブロー不織布のろ材ですので、流出がほとんどありません。 疎水性。最終フィルターとして安心して使用可能。

装置テスト用(成膜・レジスト・フォトリソ・エッチングの条件出し評価、パーティクル測定、搬送評価など)

臭気がやわらかく塗布作業がとてもスムーズ。PC板の絶縁コーティング剤。 電子機器のPC板やシャーシなどにスプレーしますと、強靭な乾燥被膜ができて、湿気・有害ガス・塩害などによるトラブルを未然に防止します。特にPC板でパターン間隔がせまいIC回路など、吸湿による絶縁低下防止にすばらしい効果があります。 ハンダ面・各種金属・樹脂・磁器などによく密着します。 完全乾燥後の被膜は電気絶縁性に優れ、耐湿・耐薬品性がよく長期間効果があります。 AY-302OBの乾燥塗膜は、肉眼では見えませんが、紫外線蛍光灯(ブラックライト)を当てると発光しますから、塗膜検査にたいへん便利です。また隠しマーキングなどにもご使用いただけます。

装置テスト用(成膜・レジスト・フォトリソ・エッチングの条件出し評価、パーティクル測定、搬送評価など)

機械的強度、電気的特性、耐湿性とも優れており、高機械強度、高圧を受ける場所にも適しています。

摩耗を進行させる化学的沈殿物、フォトレジスト、溶媒などを取除く研磨スポンジです。 頑固な汚れに対応し、強力な消毒作用と蒸気滅菌効果を持続します。

基板がフォトレジストではありません.CIF銅クラッドエポキシ.高品質の多層未処理銅めっきボードです。ガラスクロス8層。刻印ペンとタッチアップペンは別売りです。製品は、個別の保護用ビニール袋に梱包されます。

基板がフォトレジストではありません.CIF銅クラッドエポキシ.高品質の多層未処理銅めっきボードです。ガラスクロス8層。刻印ペンとタッチアップペンは別売りです。製品は、個別の保護用ビニール袋に梱包されます。

フォトレジストやその他ファインケミカルのろ過に適用 親水性ナイロン66メンブラン Advanced Pleat Technology(TM)(APT(TM))構造 大きなろ過面積 優れたゲル状異物除去能力 アウトガスとマイクロバブルの発生を低減 高流量・低圧力損失・ロングライフ 低コスト 低溶出カートリッジ

ペタローラー、ペタペン、ペタへらに付着したゴミを転写シートに移して、取り除きます。水洗いで何回でも使用可能です。

微量金属(Na、Fe、Cr、Al等)、微量コロイド等のろ過に有効 ppbレベルまで除去 SHグレードは、特にNa、Feの除去効率に優れた製品 ゼータ電位による吸着作用と機械的ろ過作用とのダブルキャッチシステム 優れた粒子捕捉能カ 微粒子、コロイド粒子等の異物を効率良く捕捉 テスト用47mm、90mmディスクからカートリッジにスケールアップが可能

高純度薬品に適用 疎水性のPTFEメンブランとポリプロピレンによる構造 優れた耐液性 ロスの低減 速いスタートアップ 長いフィルターライフ 優れたゲル、微粒子除去性能 Advanced Pleat Technology(TM)(APT(TM))構造 大きなろ過面積 コンパクトな構造 残液も少なく高価な薬液の廃棄ロスも低減 システムの初期稼動時間の低減 高流量・低圧力損失・ロングライフ

親水性ナイロン66メンブラン FlexN(TM)マルチゾーンメンブランテクノロジー より多くの粒子の捕捉が可能 Advanced Pleat Technology(TM)(APT(TM))構造 大きなろ過面積 高流量・低圧力損失・ロングライフ 低コスト 低溶出カートリッジ

少量生産ラインに適用 実績豊かなPolypro-Klean(TM) ろ材を使用 コンパクトな形状 ハウジングなしで、そのままラインにつなぐことが可能 ろ材をカプセルに熱溶着 低溶出 純水洗浄 最終フィルターとして安心して使用可能 製造装置、洗浄装置に組込可能

原液のままですぐ現像ができる。 希釈することなく、原液のまますぐに現像ができます。 100×150mmの片面感光基板であれば15～20枚程度の現像が可能です。

Advanced Pleat Technology(TM)(APT(TM))構造 大きなろ過面積 最終チェックフィルターとしても使用可能 オールポリプロピレン製のクリーンな構造 幅広い耐薬品性 低溶出 高流量・低圧力損失・ロングライフ