「石英基板」の検索結果

熱膨張係数が小さく、耐熱温度が高い石英ガラス板です。 純度が高く、不純物が極めて少ない石英を使用しています。 紫外域から赤外域までの光の透過性に優れています。

溶融石英は研磨板は、主に天然水晶を原料として製造しており、含有する不純物は、ppmレベルです。合成石英研磨板は、四塩化ケイ素を原料として製造しており、含有する不純物はppbレベルです。上下面を光学研磨加工しています。

ほぼ二酸化ケイ素(sio₂)で構成され、金属不純物や気泡が少ないのが特徴です。フロートガラス(青板ガラス)と比較して、光透過率が全波長にわたり非常に良好です。短波長の紫外～赤外領域での広い波長域において優れた光透過性を優しています。耐熱温度は連続使用温度900℃と耐熱性にも優れています。理化学用機器類や、半導体製造用治具の材料として最適な素材です。

お求めやすい石英ガラス板

熱に強く(耐熱約900～1000℃)、透明度が高く、耐薬品性があり薬品に侵されにくいガラスです。

溶融石英は研磨板は、主に天然水晶を原料として製造しており、含有する不純物は、ppmレベルです。合成石英研磨板は、四塩化ケイ素を原料として製造しており、含有する不純物はppbレベルです。上下面を光学研磨加工しています。

ほぼ二酸化ケイ素(sio₂)で構成され、金属不純物や気泡が少ないのが特徴です。フロートガラス(青板ガラス)と比較して、光透過率が全波長にわたり非常に良好です。短波長の紫外～赤外領域での広い波長域において優れた光透過性を優しています。耐熱温度は連続使用温度900℃と耐熱性にも優れています。理化学用機器類や、半導体製造用治具の材料として最適な素材です。

お求めやすい石英ガラス板

溶融石英は研磨板は、主に天然水晶を原料として製造しており、含有する不純物は、ppmレベルです。合成石英研磨板は、四塩化ケイ素を原料として製造しており、含有する不純物はppbレベルです。上下面を光学研磨加工しています。

片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5～4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。

耐食性、耐熱性にすぐれ、電子部品、各種セラミックス、新素材などの生産・研究開発用に幅広く使用されています。

ほぼ二酸化ケイ素(sio₂)で構成され、金属不純物や気泡が少ないのが特徴です。 フロートガラス(青板ガラス)と比較して、光透過率が全波長にわたり非常に良好です。 短波長の紫外～赤外領域での広い波長域において優れた光透過性を優しています。 耐熱温度は連続使用温度900℃と耐熱性にも優れています。 理化学用機器類や、半導体製造用治具の材料として最適な素材です。

溶融石英は研磨板は、主に天然水晶を原料として製造しており、含有する不純物は、ppmレベルです。合成石英研磨板は、四塩化ケイ素を原料として製造しており、含有する不純物はppbレベルです。上下面を光学研磨加工しています。

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

素材のサイズを1mm単位で指定可能。さらに、穴のサイズ、位置も自由に設定可能です。

素材のサイズを1mm単位で指定可能。さらに、穴のサイズ、位置も自由に設定可能です。

素材のサイズを1mm単位で指定可能です。

高精度に研磨された平面基板にアルミを蒸着したミラーです。あらゆる入射角度で高い反射率を得ることができます。

高精度に研磨された平面基板にアルミを蒸着したミラーです。高い平行度が出ているのでジグの角度出しに使えます。

高精度に研磨された平面基板にアルミを蒸着したミラーです。あらゆる入射角度で高い反射率を得ることができます。

高精度に研磨された平面基板にアルミを蒸着したミラーです。あらゆる入射角度で高い反射率を得ることができます。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。

入射角度を変えることで、透過率と反射率の光量分岐比が変えられるビームスプリッターです。光量可変調整のないレーザや安定化させたレーザで外付け光量調整が必要な場合、光学系の調整などで一時的に光量を弱くしたい場合、レーザビームを透過・反射分岐で任意の2つの光量に分けたい場合に使用できます。

基板の表・裏面に僅かなウェッジをつけることで、表・裏面による反射ビームを分離させることができます。ビームサンプラーや干渉計の参照原器として使用できます。

片面が高精度に研磨され、レーザミラーレベルまでキズを減らした平面基板です。特注のミラーなどで蒸着膜をコーティングする基板として使用されます。形状やサイズ、厚さ、面精度など細分化された豊富なバリエーションの中から、ご仕様に合わせてご選定いただけます。平行度が高く両面研磨された平行平面基板(OPB、OPSQ、OPSQK)もご用意しています。パイレックス(R)はコーニング社の登録商標です。※平面基板は両面ともコーティングされていません。※ガラスの表面には3.5～4%の反射があります。※平面基板(裏面研磨面)を透過で使用した場合、透過ビームがわずかに傾斜する可能性があります。※透過で使用する場合は平行平面基板を(OPB、OPSQ、OPSQK)をご使用ください。※面精度保証データは製品には添付されません。

パルス幅100fs以下で超短パルスレーザでも使用できる波長分散が小さいレーザミラーです。波長分散、波長帯域、レーザ耐力を考慮して最適化した特殊な薄膜設計を行っています。

密閉容器の中や隔壁の反対側に光を通す場合に使用する高品質の窓です。YAGレーザの波長に合わせ透過率を高めているので、レーザのウィンドとして使用できます。レーザの光路中に垂直にこの窓板を挿入しても、透過ビームの角度は変わらない平行平面タイプと、表面と裏面との干渉の影響が小さいウェッジタイプがあります。

ハイパワーのレーザや大きなビーム径の光に用いることができるプレートタイプの偏光ビームスプリッターです。高出力レーザ用の偏光アッテネータや光量分岐比を可変する光学系などに使用されます。

入射角度を変えることで、透過率と反射率の光量分岐比が変えられるビームスプリッターです。光量可変調整のないレーザや安定化させたレーザで外付け光量調整が必要な場合、光学系の調整などで一時的に光量を弱くしたい場合、レーザビームを透過・反射分岐で任意の2つの光量に分けたい場合に使用できます。

紫外、可視域、赤外の広い波長帯域で使用できるプレート型のハーフミラーです。多波長レーザや白色光原の透過・反射分岐に使用できます。

紫外、可視域、赤外の広い波長帯域で使用できるプレート型のハーフミラーです。多波長レーザや白色光原の透過・反射分岐に使用できます。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。

ガラス基板の両面を平行に研磨した基板です。特注のビームスプリッターや窓などで蒸着膜をコーティングする基板として使用できます。可視、赤外域で使用できるBK7タイプの平行平面基板です。平行度が高いものは、レーザの光路中に垂直に平行平面基板を挿入しても、透過ビームの角度は変わりません。面精度の高いものは、ニュートン原器の代わりとして使用することもできます。裏面反射の影響を防ぐことができる、ウェッジ基板(WSB/WSSQ/WSSQK)もご用意しています。※平行平面基板は表裏面の反射により10%の損失が生じます。※面精度保証データは製品には添付されません。