1軸アクチュエータ SE4510B(G3) カバー付・ピン用穴有

1軸アクチュエータ SE4510B(G3) カバー付・ピン用穴有 黒田精工

ボールねじと直線案内機器を一体化し、複雑な精度調整が不要、取付工数の大幅な削減が可能。
直線運動部は、ボールねじ溝と同様にゴシックアーチを採用し、高精度の位置決め精度が可能。
U字形状のガイドレールの採用でコンパクトで高剛性を実現。
U字形状のガイドレールの中にスライドブロックを配置し、低断面構造とし省スペース化を実現。
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00017555 SE4510B-540W-G3CM-NS-PR 標準仕様(黒染め) - 540 - M(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017564 SE4510B-540W-G3CM-NS-PSR 標準仕様(黒染め) - 540 - M(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017580 SE4510B-540W-G3CM-LN-PR 防錆黒色被膜処理 - 540 - M(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017589 SE4510B-540W-G3CM-LN-PSR 防錆黒色被膜処理 - 540 - M(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017598 SE4510B-540W-G3CM-LS-PR 防錆黒色被膜処理 - 540 - M(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017607 SE4510B-540W-G3CM-LS-PSR 防錆黒色被膜処理 - 540 - M(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017616 SE4510B-540W-G3CY-NN-PR 標準仕様(黒染め) - 540 - Y(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017756 SE4510B-540W-G3CC-LS-PR 防錆黒色被膜処理 - 540 - C(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017765 SE4510B-540W-G3CC-LS-PSR 防錆黒色被膜処理 - 540 - C(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017774 SE4510B-540W-G3CP-NN-PR 標準仕様(黒染め) - 540 - P(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017799 SE4510B-540W-G3CP-NS-PR 標準仕様(黒染め) - 540 - P(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017808 SE4510B-540W-G3CP-NS-PSR 標準仕様(黒染め) - 540 - P(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017817 SE4510B-540W-G3CP-LN-PR 防錆黒色被膜処理 - 540 - P(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017826 SE4510B-540W-G3CP-LN-PSR 防錆黒色被膜処理 - 540 - P(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017835 SE4510B-540W-G3CP-LS-PR 防錆黒色被膜処理 - 540 - P(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00017844 SE4510B-540W-G3CP-LS-PSR 防錆黒色被膜処理 - 540 - P(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033454 SE4510B-640W-G3CN-NN-PR 標準仕様(黒染め) - 640 - なし - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033470 SE4510B-640W-G3CN-NN-PSR 標準仕様(黒染め) - 640 - なし - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033479 SE4510B-640W-G3CN-NS-PR 標準仕様(黒染め) - 640 - なし - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033488 SE4510B-640W-G3CN-NS-PSR 標準仕様(黒染め) - 640 - なし - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033497 SE4510B-640W-G3CN-LN-PR 防錆黒色被膜処理 - 640 - なし - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033506 SE4510B-640W-G3CN-LN-PSR 防錆黒色被膜処理 - 640 - なし - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033515 SE4510B-640W-G3CN-LS-PR 防錆黒色被膜処理 - 640 - なし - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033524 SE4510B-640W-G3CN-LS-PSR 防錆黒色被膜処理 - 640 - なし - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033540 SE4510B-640W-G3CM-NN-PR 標準仕様(黒染め) - 640 - M(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033549 SE4510B-640W-G3CM-NN-PSR 標準仕様(黒染め) - 640 - M(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033558 SE4510B-640W-G3CM-NS-PR 標準仕様(黒染め) - 640 - M(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033567 SE4510B-640W-G3CM-NS-PSR 標準仕様(黒染め) - 640 - M(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033576 SE4510B-640W-G3CM-LN-PR 防錆黒色被膜処理 - 640 - M(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
339,000
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00033585 SE4510B-640W-G3CM-LN-PSR 防錆黒色被膜処理 - 640 - M(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
344,000
269,800
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00033594 SE4510B-640W-G3CM-LS-PR 防錆黒色被膜処理 - 640 - M(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
340,000
269,800
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00033610 SE4510B-640W-G3CM-LS-PSR 防錆黒色被膜処理 - 640 - M(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
345,000
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00033619 SE4510B-640W-G3CY-NN-PR 標準仕様(黒染め) - 640 - Y(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033628 SE4510B-640W-G3CY-NN-PSR 標準仕様(黒染め) - 640 - Y(フォトマイクロセンサ) - 標準グリース W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033637 SE4510B-640W-G3CY-NS-PR 標準仕様(黒染め) - 640 - Y(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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00033646 SE4510B-640W-G3CY-NS-PSR 標準仕様(黒染め) - 640 - Y(フォトマイクロセンサ) - 低発塵グリース(クロダSグリース) W(繰返し位置決め精度:±10μm) - -
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