00232900 | SE4510D-540W-A4NM-NS-PR | 540 | M(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥240,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00232909 | SE4510D-540W-A4NM-NS-PSR | 540 | M(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥245,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00232918 | SE4510D-540W-A4NM-LN-PR | 540 | M(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥263,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00232927 | SE4510D-540W-A4NM-LN-PSR | 540 | M(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥268,000 | ¥209,800 | ¥230,780(税込) |
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00232936 | SE4510D-540W-A4NM-LS-PR | 540 | M(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥264,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00232945 | SE4510D-540W-A4NM-LS-PSR | 540 | M(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥269,000 | ¥209,800 | ¥230,780(税込) |
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00232954 | SE4510D-540W-A4NY-NN-PR | 540 | Y(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥239,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00232970 | SE4510D-540W-A4NY-NN-PSR | 540 | Y(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥244,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00232979 | SE4510D-540W-A4NY-NS-PR | 540 | Y(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥240,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00232988 | SE4510D-540W-A4NY-NS-PSR | 540 | Y(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥245,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00232997 | SE4510D-540W-A4NY-LN-PR | 540 | Y(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥263,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00233006 | SE4510D-540W-A4NY-LN-PSR | 540 | Y(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥268,000 | ¥209,800 | ¥230,780(税込) |
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00233015 | SE4510D-540W-A4NY-LS-PR | 540 | Y(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥264,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00233024 | SE4510D-540W-A4NY-LS-PSR | 540 | Y(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥269,000 | ¥209,800 | ¥230,780(税込) |
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00233040 | SE4510D-540W-A4NC-NN-PR | 540 | C(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥239,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00233049 | SE4510D-540W-A4NC-NN-PSR | 540 | C(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥244,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00233058 | SE4510D-540W-A4NC-NS-PR | 540 | C(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥240,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00233067 | SE4510D-540W-A4NC-NS-PSR | 540 | C(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥245,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00233076 | SE4510D-540W-A4NC-LN-PR | 540 | C(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥263,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00233085 | SE4510D-540W-A4NC-LN-PSR | 540 | C(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥268,000 | ¥209,800 | ¥230,780(税込) |
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00233094 | SE4510D-540W-A4NC-LS-PR | 540 | C(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥264,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00233110 | SE4510D-540W-A4NC-LS-PSR | 540 | C(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥269,000 | ¥209,800 | ¥230,780(税込) |
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00233119 | SE4510D-540W-A4NP-NN-PR | 540 | P(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥239,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00233128 | SE4510D-540W-A4NP-NN-PSR | 540 | P(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥244,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00233137 | SE4510D-540W-A4NP-NS-PR | 540 | P(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥240,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00233146 | SE4510D-540W-A4NP-NS-PSR | 540 | P(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥245,000 | ¥189,800 | ¥208,780(税込) |
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00233155 | SE4510D-540W-A4NP-LN-PR | 540 | P(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥263,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00233164 | SE4510D-540W-A4NP-LN-PSR | 540 | P(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥268,000 | ¥209,800 | ¥230,780(税込) |
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00233180 | SE4510D-540W-A4NP-LS-PR | 540 | P(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥264,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00233189 | SE4510D-540W-A4NP-LS-PSR | 540 | P(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥269,000 | ¥209,800 | ¥230,780(税込) |
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00248799 | SE4510D-640W-A4NN-NN-PR | 640 | なし | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥247,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00248808 | SE4510D-640W-A4NN-NN-PSR | 640 | なし | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥252,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00248817 | SE4510D-640W-A4NN-NS-PR | 640 | なし | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥248,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00248826 | SE4510D-640W-A4NN-NS-PSR | 640 | なし | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥253,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00248835 | SE4510D-640W-A4NN-LN-PR | 640 | なし | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥273,000 | ¥219,800 | ¥241,780(税込) |
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00248844 | SE4510D-640W-A4NN-LN-PSR | 640 | なし | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥278,000 | ¥219,800 | ¥241,780(税込) |
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00248860 | SE4510D-640W-A4NN-LS-PR | 640 | なし | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥274,000 | ¥219,800 | ¥241,780(税込) |
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00248869 | SE4510D-640W-A4NN-LS-PSR | 640 | なし | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥279,000 | ¥219,800 | ¥241,780(税込) |
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00248878 | SE4510D-640W-A4NM-NN-PR | 640 | M(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥259,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00248887 | SE4510D-640W-A4NM-NN-PSR | 640 | M(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥264,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00248896 | SE4510D-640W-A4NM-NS-PR | 640 | M(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥260,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00248905 | SE4510D-640W-A4NM-NS-PSR | 640 | M(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥265,000 | ¥209,800 | ¥230,780(税込) |
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00248914 | SE4510D-640W-A4NM-LN-PR | 640 | M(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥285,000 | ¥229,800 | ¥252,780(税込) |
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00248930 | SE4510D-640W-A4NM-LN-PSR | 640 | M(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥290,000 | ¥229,800 | ¥252,780(税込) |
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00248939 | SE4510D-640W-A4NM-LS-PR | 640 | M(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥286,000 | ¥229,800 | ¥252,780(税込) |
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00248948 | SE4510D-640W-A4NM-LS-PSR | 640 | M(フォトマイクロセンサ) | 防錆黒色被膜処理 | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥291,000 | ¥229,800 | ¥252,780(税込) |
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00248957 | SE4510D-640W-A4NY-NN-PR | 640 | Y(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥259,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00248966 | SE4510D-640W-A4NY-NN-PSR | 640 | Y(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 標準グリース | ¥264,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00248975 | SE4510D-640W-A4NY-NS-PR | 640 | Y(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥260,000 | ¥199,800 | ¥219,780(税込) |
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00248984 | SE4510D-640W-A4NY-NS-PSR | 640 | Y(フォトマイクロセンサ) | 標準仕様(黒染め) | W(繰返し位置決め精度:±10μm) | 低発塵グリース(クロダSグリース) | ¥265,000 | ¥209,800 | ¥230,780(税込) |
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