MSAファクトリーの科学研究・開発用品

最薄・最小ホットプレート最高温度150℃高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

ホットプレートは、高温800℃で高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

ホットプレートは、300℃で薄型タイプ(高さ33mm)、ヒータ実装に特長があり、長時間稼働も可能です。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

駆動部にクロスローラウェイを用いた、精密薄型XYステージです。高耐荷重(20kg)タイプです。

オールテフロン製品なので、耐薬品性に優れています。

多孔質セラミック防水機能付きホットチャック 最高温度200℃高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

多孔質セラミック防水機能付きホットチャック最高温度200℃高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

多孔質セラミックホットチャック 最高温度200℃高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

多孔質セラミックホットチャック最高温度200℃高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

最薄ホットプレート最高温度150℃高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

最薄ホットプレート最高温度150℃高精度・50mm超小型タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

最薄ホットプレート最高温度200℃高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

PH131Bにホットプレート上面カバー付き、プレート面直近まで手作業可能です。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

ホットプレートは、セラミックヒータ、高速昇温400℃タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

ホットプレートは、高温900℃で高精度・高効率リフレクタ(熱反射板)実装タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

ホットプレートは、高温800℃で高精度タイプです。安全カバーケースに実装されています。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

ホットプレートは、600℃で防水・薄型タイプ、ヒータ実装に特長があり、長時間稼働も可能です。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

ホットプレートは、高温600℃で高精度タイプです。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

ホットプレートは、400℃で防水・薄型タイプ、ヒータ実装に特長があり、長時間稼働も可能です。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

ホットプレートは、200℃で薄型タイプ(高さ33mm)、ヒータ実装に特長があり、長時間稼働も可能です。専用温度コントローラーは多点PID機能(各温度域でPIDパラメータ自動切替え)、室温から最高温度まで高精度制御を導入当日よりご使用いただけます。(出荷時PID設定済み)

ウエハ、ガラス基板など極薄のワークを均一に加熱します。ワークは真空吸着により固定できます。付属の温度調節器で精密温度制御が可能です。

ウエハ、ガラス基板など極薄のワークを均一に加熱します。ワークは真空吸着により固定できます。付属の温度調節器で精密温度制御が可能です。

ガラス面とホットプレート面の距離が3.5mmで高倍率での顕微鏡観察に対応します。ガラスチャンバー窒素ガス封入式のホットプレートです。ヒーターにはセラミックヒーターを採用し高速昇温が可能です。

最高温度400℃対応の真空ホットプレートチャンバーです。観察窓によりワークの状態が視認できます。金属、ウェハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での高速昇温加熱プロセスに適します。