科学研究・開発用品 ：「メタルシール」の検索結果

耐薬品性、耐熱性に優れたフッ素樹脂製ボトルです。 金属溶出がなくメタルフリーを実現します。 表面に物が付着しにくく表面特性に優れています。 シール性抜群。

メタルフリーの高品質フッ素樹脂製ボトル。中栓なしでもシール性抜群。メタルフリーの高品質フッ素樹脂PFA製ボトル。本体・キャップは全てフッ素樹脂PFA製ですので溶出イオンが少なく純粋性に優れます。酸やアルカリは勿論、有機溶媒にも強い耐性を誇ります。耐熱温度は200℃。非粘着性にも優れます。ロット毎の減圧漏れ試験を実施し、シール性に自信があります。分析機関でのサンプル容器や高純度試薬の保存容器などに最適です。

エム・テクニック製チャッキバルブ MCVシリーズは、高度なサニタリー性と優れたメンテナンス性を誇り、スイング型やリフト型に比べ高い信頼性、耐久性が求められる箇所に適しています。スプリングによりディスク弁を弁座に押しつけ、確実に逆流を防ぐ逆止弁です。シール部分はガスケット類を使用せず、金属表面を超精密ポリッシング加工により仕上げております。スプリングの固定は溝にはめ込みで、きわめてシンプルな構造です。フルボア型とレデュースボア型があります。優れたサニタリー性流路内に発塵源となる、摺動部・回転部がないため、異物の発生がありません。また液溜まりの無い構造で、流体の残留がありません。省スペース、簡易構造小型形状で、取付スペースが少ない。構造がシンプルで、優れたメンテナンス性。取付方向を問わず配管取付が容易水平垂直どちらに取付しても、正確な動作が得られます。接続はサニタリー規格に適合しています。材質は全てSUS316L(スプリングのみSUS316)シール部はメタルのため、耐久性・耐熱性に優れており、安定したシール性を確保しています。部品は、鋳巣やピンホールの発生が無い素材からの削りだし加工です。

。エム・テクニック製チャッキバルブ MCVシリーズは、高度なサニタリー性と優れたメンテナンス性を誇り、スイング型やリフト型に比べ高い信頼性、耐久性が求められる箇所に適しています。スプリングによりディスク弁を弁座に押しつけ、確実に逆流を防ぐ逆止弁です。シール部分はガスケット類を使用せず、金属表面を超精密ポリッシング加工により仕上げております。スプリングの固定は溝にはめ込みで、きわめてシンプルな構造です。フルボア型とレデュースボア型があります。優れたサニタリー性流路内に発塵源となる、摺動部・回転部がないため、異物の発生がありません。また液溜まりの無い構造で、流体の残留がありません。省スペース、簡易構造小型形状で、取付スペースが少ない。構造がシンプルで、優れたメンテナンス性。取付方向を問わず配管取付が容易水平垂直どちらに取付しても、正確な動作が得られます。接続はサニタリー規格に適合しています。材質は全てSUS316L(スプリングのみSUS316)シール部はメタルのため、耐久性・耐熱性に優れており、安定したシール性を確保しています。部品は、鋳巣やピンホールの発生が無い素材からの削りだし加工です。

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高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2の精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素や水分を含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。

気密性に優れています。真空ラインや可燃性・毒性ガスに使用可能です。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2、メタン、クリーンドライエア CDA) ら水分を低 pb ベルまで除去します。 乾燥ガスを必要とするあらゆるアプリケーションに推奨します。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2 精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ブタンより重い) 含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2 精製に使用できるため、GC よび C/MS ャリアガスラインでの使用に適しています。また、酸素、水、炭化水素 ブタンより重い) 含まない超高純度ガスを必要とするアプリケーションに推奨します。

高純度ガスは、ガスクロマトグラフィー、分光法、光学、リソグラフィ、製造および分析ラボ等における多くのアプリケーションにおいて重要な要件です。ZPure(TM) スフィルターは、広範囲の汚染物質を微量レベルまで除去します。ステンレスボディ、微粒子除去用の一体型ステンレスフリット、高容量吸着剤、オールメタルシーリングシステム、ヘリウムガスによるリークチェック済み、不活性ガス、He、Ar、N2、H2、クリーンドライエア CDA) ら炭化水素(ブタンより重い)を数ppbレベルまで除去します。炭化水素を含まないガスを必要とするほとんどのアプリケーションに推奨します。